上海华力集成电路制造有限公司张佳健获国家专利权
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龙图腾网获悉上海华力集成电路制造有限公司申请的专利集成光刻设备排液壳体结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224052552U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520754220.7，技术领域涉及：G03F7/20；该实用新型集成光刻设备排液壳体结构是由张佳健设计研发完成，并于2025-04-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本集成光刻设备排液壳体结构在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种集成光刻设备排液壳体结构，包括壳体本体、废液入口，光阻废液通过废液入口流入壳体本体；壳体本体设有直通式排液接口；直通式排液接口与光阻废液的收集总管直接连通，收集总管内部保持溶剂循环流动；直通式排液接口的横截面积比前溢出式排液壳体结构的排液口扩大。本实用新型能够降低设备因光阻结晶导致的清理频率，避免产品因泄漏导致报废。
本实用新型集成光刻设备排液壳体结构在权利要求书中公布了：1.一种集成光刻设备排液壳体结构，包括壳体本体、废液入口，其特征在于： 光阻废液通过所述废液入口流入所述壳体本体； 所述壳体本体设有直通式排液接口； 所述直通式排液接口与所述光阻废液的收集总管直接连通，所述收集总管内部保持溶剂循环流动； 所述直通式排液接口的横截面积比前溢出式排液壳体结构的排液口扩大。
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