东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司张建获国家专利权
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龙图腾网获悉东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司申请的专利光学检测系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224052033U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520762003.2，技术领域涉及：G01N21/95；该实用新型光学检测系统是由张建;王磊;顾佳设计研发完成，并于2025-04-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学检测系统在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种光学检测系统。其中光学检测系统包括：真空腔室，其内部放置有待检测样品，其顶部开设有窗口；平面镜，设置于窗口处，以封闭窗口；显微镜，设置于真空腔室外部；以及像差补偿装置，设置于显微镜和待检测样品之间，其包括位于平面镜上方的第一透镜结构和位于平面镜下方的第二透镜结构，配置成减小或消除平面镜引入的像差通过设置像差补偿装置。本实用新型的光学检测系统，能够减小或消除真空腔室窗口的平面镜引入的像差，提高光学检测系统的检测精度和检测效率；消除物镜的工作距离对窗口平面镜的厚度的限制，适用于各种工作距离的物镜，扩大了适用范围。
本实用新型光学检测系统在权利要求书中公布了：1.一种光学检测系统，其特征在于，包括： 真空腔室，其内部放置有待检测样品，其顶部开设有窗口； 平面镜，设置于所述窗口处，以封闭所述窗口； 显微镜，设置于所述真空腔室外部；以及 像差补偿装置，设置于所述显微镜和所述待检测样品之间，其包括位于所述平面镜上方的第一透镜结构和位于所述平面镜下方的第二透镜结构，配置成减小或消除所述平面镜引入的像差。
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