福州晶至光电科技有限公司朱志强获国家专利权
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龙图腾网获悉福州晶至光电科技有限公司申请的专利一种可减少晶体挥发的坩埚获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224047577U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520739971.1，技术领域涉及：C30B11/00；该实用新型一种可减少晶体挥发的坩埚是由朱志强;赵慧彬;李晓华设计研发完成，并于2025-04-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种可减少晶体挥发的坩埚在说明书摘要公布了：本实用新型公开了坩埚技术领域的一种可减少晶体挥发的坩埚，包括封装柱，所述封装柱的上下端均封盖有盖体，所述封装柱的内腔开设有若干组上下贯通的坩埚孔，下方所述盖体的内腔设置有位于封装柱下方的坩埚支撑盘，所述坩埚支撑盘的顶部开设有若干与坩埚孔数量相同的支撑孔，所述坩埚孔内放置有底部与支撑孔固定的坩埚主体；本实用新型通过坩埚主体上的塞子和封装柱两端盖体的双层式密封，可有效的减少晶体挥发，从而提升晶体结晶的质量和效率，可创造更多的企业收益。
本实用新型一种可减少晶体挥发的坩埚在权利要求书中公布了：1.一种可减少晶体挥发的坩埚，包括封装柱1，其特征在于：所述封装柱1的上下端均封盖有盖体2，所述封装柱1的内腔开设有若干组上下贯通的坩埚孔3，下方所述盖体2的内腔设置有位于封装柱1下方的坩埚支撑盘4，所述坩埚支撑盘4的顶部开设有若干与坩埚孔3数量相同的支撑孔，所述坩埚孔3内放置有底部与支撑孔固定的坩埚主体5。
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