上海积塔半导体有限公司韦爽获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉上海积塔半导体有限公司申请的专利化学机械研磨垫修整器清洗装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224041863U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520655160.3，技术领域涉及：B08B3/02；该实用新型化学机械研磨垫修整器清洗装置是由韦爽;闫晓晖;杨俊男设计研发完成，并于2025-04-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本化学机械研磨垫修整器清洗装置在说明书摘要公布了：本实用新型提供化学机械研磨垫修整器清洗装置，挡水圈通过气缸驱动实现上下移动，以在清洗过程中防止水溅射，喷水嘴安装于所述旋转盘上，所述旋转盘通过所述传动部件与所述驱动机构连接，由所述驱动机构驱动旋转，以对修整器进行清洗。本实施方式的化学机械研磨垫修整器清洗装置通过挡水圈和气缸的协同作用，形成了封闭的清洗空间，有效隔离清洗区域，避免水溅射到研磨垫，保持研磨速率和研磨形貌稳定性，而喷水系统增强了清洗能力，能够彻底去除修整器表面的杂质和残留物，延长其使用寿命。
本实用新型化学机械研磨垫修整器清洗装置在权利要求书中公布了：1.一种化学机械研磨垫修整器清洗装置，其特征在于，包括： 设置于所述修整器1下方的挡水圈2，所述挡水圈2通过气缸3、31、32驱动实现上下移动，以在清洗过程中防止水溅射；以及 设置于所述挡水圈2下方的清洗组件4，包括多个喷水嘴41、旋转盘42、驱动机构43和传动部件44，所述喷水嘴41安装于所述旋转盘42上，所述旋转盘42通过所述传动部件44与所述驱动机构43连接，由所述驱动机构43驱动旋转，以对修整器1进行清洗。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人上海积塔半导体有限公司，其通讯地址为：201306 上海市浦东新区自由贸易试验区临港新片区云水路600号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励