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龙图腾网获悉长沙麓邦光电科技有限公司申请的专利分光棱镜消偏振薄膜及制备方法、分光棱镜及制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121386053B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511983060.4，技术领域涉及：G02B1/10；该发明授权分光棱镜消偏振薄膜及制备方法、分光棱镜及制备方法是由田兴波;李湘;李晓春设计研发完成，并于2025-12-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本分光棱镜消偏振薄膜及制备方法、分光棱镜及制备方法在说明书摘要公布了：本发明属于光学分光元件技术领域，具体涉及分光棱镜消偏振薄膜及其制备方法、分光棱镜及其制备方法。本发明提供的分光棱镜消偏振薄膜包括依次层叠设置的第一SiO2膜层、第一Ta2O5膜层、第一Al2O3膜层、金属银层、第二Al2O3膜层、第二Ta2O5膜层和第二SiO2膜层，所述第一SiO2膜层与基底的表面接触。本发明提供的分光棱镜消偏振薄膜膜层数明显减少，总膜厚明显减薄，大大优化了膜层厚度，节省了膜料用量成本及设备能耗，大大提高了加工效率；同时降低了膜层破裂，掉电镀层的风险；膜层所含薄层相对更少，设备监控更加精准，实际效果与设计更接近，即能实现的规格更严苛，具有优异的实用价值。

本发明授权分光棱镜消偏振薄膜及制备方法、分光棱镜及制备方法在权利要求书中公布了：1.一种分光棱镜消偏振薄膜，其特征在于，包括依次层叠设置的第一SiO2膜层、第一Ta2O5膜层、第一Al2O3膜层、金属银层、第二Al2O3膜层、第二Ta2O5膜层和第二SiO2膜层，所述第一SiO2膜层与基底的表面接触；在400~700nm波段条件下的所述分光棱镜消偏振薄膜的厚度为190~300nm，在400~700nm波段条件下：所述第一SiO2膜层的厚度为70~90nm，所述第一Ta2O5膜层的厚度为15~25nm，所述第一Al2O3膜层的厚度为40~60nm，所述金属银层的厚度为6.2~8.8nm，所述第二Al2O3膜层的厚度为10~20nm，所述第二Ta2O5膜层的厚度为10~25nm，所述第二SiO2膜层的厚度为45~60nm；在700~1100nm波段条件下的所述分光棱镜消偏振薄膜的厚度为300~400nm，在700~1100nm波段条件下：所述第一SiO2膜层的厚度为30~39nm，所述第一Ta2O5膜层的厚度为63~79nm，所述第一Al2O3膜层的厚度为28~36nm，所述金属银层的厚度为5~8nm，所述第二Al2O3膜层的厚度为31~40nm，所述第二Ta2O5膜层的厚度为35~45nm，所述第二SiO2膜层的厚度为126~139nm。

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