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龙图腾网获悉哈尔滨工业大学申请的专利一种多光谱伪装红外波长选择薄膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121109982B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511678279.3，技术领域涉及：C23C14/54；该发明授权一种多光谱伪装红外波长选择薄膜及其制备方法是由渠怀志;徐梁格;包阿特尔;滕祥青;韩松霖;张善勇;朱嘉琦设计研发完成，并于2025-11-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种多光谱伪装红外波长选择薄膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种多光谱伪装红外波长选择薄膜及其制备方法，属于光谱热辐射管理技术领域，包括：根据薄膜材料在3‑25μm波段内的光学常数，筛选在8‑14μm波段具有定向发射的材料作为定向发射层材料；将定向发射层材料与无损介质材料和金属材料进行组合，构建级联的法布里‑珀罗谐振腔结构；根据各层膜的排列顺序和光学常数，以各层膜的厚度作为优化变量，利用以品质因子函数为判断依据的优化算法进行迭代计算，得到各层膜的最优厚度；根据多层复合膜结构和各层膜的最优厚度，采用磁控溅射工艺在基底上沉积各层膜材料，制备得到多光谱伪装红外波长选择薄膜。本方案提升了膜层的优化效率，在保持多光谱伪装性能的同时，实现了高效热管理。

本发明授权一种多光谱伪装红外波长选择薄膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种多光谱伪装红外波长选择薄膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括： 获取不同薄膜材料在3-25μm波段范围内的光学常数，并基于预设筛选条件筛选在8-14μm波段具有定向发射的薄膜材料作为定向发射层材料；光学常数包括光学常数折射率和消光系数；预设筛选条件为：折射率曲线与消光系数曲线的交点位于8-14μm波段范围内，且在3-5μm波段范围内的消光系数趋于0，以及在14-25μm波段范围内消光系数曲线的峰值不低于0.5； 将筛选得到的定向发射层材料与无损介质材料和金属材料进行组合，构建级联的法布里-珀罗谐振腔结构，以形成多层复合膜结构； 以各层膜的厚度作为优化变量，并将多层复合膜结构中各层膜的排列顺序和光学常数输入多物理场仿真软件中，迭代计算各层膜在3-25μm波段范围内不同角度下的吸收率； 在每次迭代中，根据各层膜在3-25μm波段不同角度下的吸收率计算品质因子函数值，并通过品质因子函数反向调整各层膜的厚度，直至计算得到的品质因子函数值最小，以输出各层膜的最优厚度； 其中，品质因子函数Fmin通过如下公式确定得到： 式中，Aλ为在3~25μm波段光谱范围内，中红外波段、5~8μm波段、远红外波段和超长红外波段的实际发射率与目标发射率之间的积分差，Bλ为探测器中心波长处的发射率加权值，0.1和0.9分别为实际发射率与目标发射率之间的积分差与中心波长处发射率加权值的加权系数，αλ为仿真输出的波长λ下的实际发射率； 根据多层复合膜结构和各层膜的最优厚度，采用磁控溅射工艺在基底上依次沉积各层膜材料，制备得到多光谱伪装红外波长选择薄膜； 由入射面至基底方向，该红外波长选择薄膜依次包括第一定向发射区、第一谐振区、第二定向发射区、选择性吸收区、第二谐振区和反射区；其中：第一定向发射区和第二定向发射区均包含至少两层不同折射率的定向发射层；第一谐振区和第二谐振区均包含一个由Ge构成的法布里-珀罗谐振腔；选择性吸收区包含耦合层和金属层；反射区包含一个反射层。

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