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龙图腾网获悉南京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司申请的专利一种曝光设备及显示基板获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116125759B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310139564.2，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种曝光设备及显示基板是由林子洋;叶纯设计研发完成，并于2023-02-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种曝光设备及显示基板在说明书摘要公布了：本公开涉及显示技术领域，提供一种曝光设备及显示基板。该曝光设备用于制备显示基板，该曝光设备包括载台本体、多个支撑柱、吸光层和消光结构，载台本体具有支撑面；多个支撑柱阵列分布于载台本体的支撑面，支撑柱用于支撑待制备的显示基板；吸光层覆盖于支撑面和支撑柱表面，吸光层用于吸收目标波长的入射光；消光结构，分布于载台本体的支撑面上且位于相邻支撑柱之间，消光结构用于对入射至其表面的光线进行多次光路转换以进行吸收，且消光结构的高度小于等于支撑柱的高度。本公开消光结构消除间隙区域图案边缘的曝光量与支撑柱200区域图案边缘的曝光量差异从而消除经由该曝光设备加工得到的显示基板因为曝光量差异而导致的显示不均问题。

本发明授权一种曝光设备及显示基板在权利要求书中公布了：1.一种曝光设备，其特征在于，所述曝光设备用于制备显示基板，所述曝光设备包括： 载台本体，具有支撑面； 多个支撑柱，阵列分布于所述载台本体的支撑面，所述支撑柱用于支撑待制备的显示基板； 吸光层，覆盖于所述支撑面和所述支撑柱表面，所述吸光层用于吸收目标波长的入射光； 消光结构，分布于所述载台本体的支撑面上且位于相邻所述支撑柱之间，所述消光结构用于对入射至其表面的光线进行多次光路转换以进行吸收，且所述消光结构的高度小于等于所述支撑柱的高度； 所述消光结构包括第二消光结构，所述第二消光结构包括第一组成部和第二组成部，所述第一组成部位于所述第二组成部背离所述支撑面的一侧，所述第一组成部为上窄下宽的椎体结构，所述第二组成部为上下等宽的结构，所述第一组成部中任意相邻的两个椎体结构通过其底部的边沿紧密接触； 其中，所述第一组成部包括传导层和半透膜层，所述第二组成部包括传导层，传导层位于所述支撑面的一侧，所述半透膜层在传导层背离支撑面的一侧覆盖传导层，半透膜层在背离传导层一侧的光透过率大于在面向传导层一侧的光透过率。

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