华中科技大学陈修国获国家专利权
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龙图腾网获悉华中科技大学申请的专利一种快照式套刻误差测量方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115755533B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211408944.3，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种快照式套刻误差测量方法及系统是由陈修国;杨世龙;胡静;陈文龙;王逸夫;刘世元设计研发完成，并于2022-11-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种快照式套刻误差测量方法及系统在说明书摘要公布了：本发明属于集成电路制造在线测量领域，并具体公开了一种快照式套刻误差测量方法及系统，其包括步骤：对待测件进行测量，分别获取具有正、负预置偏差的两道测量光谱，对测量光谱进行相干解调，将特定频道移频至零频通道；采用线性算子处理移频后的光谱数据，获得对应正负预置偏差的系数；根据系数的实部和虚部系数线性组合构造特征量，则根据对应正负预置偏差的系数分别计算得到对应的特征量；基于特征量与套刻误差的线性关系，根据特征量计算得到套刻误差。本发明无需使用传统的傅里叶分析及截断操作，就可以进行套刻误差的多波长耦合求解，具有较高精度和对噪声的鲁棒性，可用于多场景下的快照式套刻误差测量的数据处理。
本发明授权一种快照式套刻误差测量方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种快照式套刻误差测量方法，其特征在于，包括如下步骤： S1、对待测件进行测量，分别获取具有正、负预置偏差的两道测量光谱，对测量光谱进行相干解调，将特定频道移频至零频通道； S2、采用线性算子处理移频后的光谱数据，获得对应正负预置偏差的系数F+和F－； S3、通过系数的实部和虚部系数线性组合构造特征量，则根据系数F+和F－分别计算得到对应的特征量Spe+和Spe-； S4、基于特征量与套刻误差的线性关系，根据特征量Spe+和Spe-计算得到套刻误差。
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