华虹半导体(无锡)有限公司许文霞获国家专利权
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龙图腾网获悉华虹半导体(无锡)有限公司申请的专利对准方法、掩模对准标记组合及掩模版获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115509098B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211333509.9,技术领域涉及:G03F9/00;该发明授权对准方法、掩模对准标记组合及掩模版是由许文霞;李峰;居碧玉;陈辉;刘伟林;杨坤设计研发完成,并于2022-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本对准方法、掩模对准标记组合及掩模版在说明书摘要公布了:本发明提供一种对准方法、掩模对准标记组合及掩模版,其中对准方法包括:选取至少三组对准标记;选取任意两组对准标记,按沿X方向放置一组对准标记和沿Y方向放置另一组对准标记的方式进行对位评估;根据对位评估的结果,确定最终的掩模对准标记组合;利用形成有所述掩模对准标记组合的掩模版对晶圆进行曝光。其中,所述掩模对准标记组合包括:X方向上的对准标记和Y方向上的对准标记,所述X方向上的对准标记包括沟槽图形;所述Y方向上的对准标记包括图案化的金属层图形。本申请通过选取掩模对准标记组合,能够快速解决由晶圆翘曲带来的对位问题,提高对准标记抓取的成功率,提高对位的成功率,也不需要涉及到机台软硬件的改造,节省了成本。
本发明授权对准方法、掩模对准标记组合及掩模版在权利要求书中公布了:1.一种对准方法,其特征在于,包括: 选取N组对准标记,其中,N为大于2的整数; 选取任意两组所述对准标记,沿X方向放置第一组对准标记、沿Y方向放置第二组对准标记,进行一次对位评估; 沿X方向放置第二组对准标记、沿Y方向放置第一组对准标记,再进行一次对位评估; 根据对位评估的结果,确定最终的掩模对准标记组合,其中,所述掩模对准标记组合包括:X方向上的对准标记和Y方向上的对准标记,所述X方向上的对准标记包括沟槽图形;所述Y方向上的对准标记包括图案化的金属层图形; 利用形成有所述掩模对准标记组合的掩模版对晶圆进行曝光。
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