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龙图腾网获悉联宝电子股份有限公司申请的专利磁芯结构及其制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115331939B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110504494.7，技术领域涉及：H01F41/02；该发明授权磁芯结构及其制作方法是由梁景伟;张凯崎设计研发完成，并于2021-05-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本磁芯结构及其制作方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种磁芯结构及其制作方法。磁芯结构包含一磁芯、多个导电层及两个导线。磁芯具有一卷绕柱、连接卷绕柱两端的一第一侧柱及一第二侧柱。卷绕柱包含具有一个容置槽的两个外凸部。第一侧柱具有两个第一设置台，第二侧柱具有两个第二设置台。多个导电层设置于两个第一设置台与两个第二设置台上。两个导线卷绕于卷绕柱上，两个导线的部份分别位于两个容置槽内。其中，一个导线电性耦接相同一侧的第一设置台及第二设置台上的导电层，另一个导线电性耦接相同另一侧的第一设置台及第二设置台上的导电层。由此，磁芯结构能提升制作效率。

本发明授权磁芯结构及其制作方法在权利要求书中公布了：1.一种磁芯结构的制作方法，适用于一磁芯结构上，所述磁芯结构包含一磁芯，所述磁芯具有一卷绕柱、及连接所述卷绕柱两端的一第一侧柱与一第二侧柱；所述卷绕柱具有一延伸方向及垂直所述延伸方向的一宽度方向，并且所述卷绕柱包含一本体部及连接所述本体部的两个外凸部，每个所述外凸部包含一容置槽、及位于所述容置槽两侧的两个耦接台；所述第一侧柱及所述第二侧柱各具有彼此间隔配置的两个设置台，每个所述外凸部更包含一切线槽，所述切线槽沿所述宽度方向配置于其相邻的任两个所述耦接台之间、并且连通所述容置槽，其特征在于， 所述制作方法包括以下步骤： 实施一平面电镀步骤：利用平面电镀印刷于所述第一侧柱的两个所述设置台、所述第二侧柱的两个所述设置台、及两个所述外凸部的两个所述耦接台上形成一导电层； 实施一第一焊接步骤：利用焊接将两个导线的一第一端分别固定于所述第一侧柱的两个所述设置台上的所述导电层； 实施一第一缠绕步骤：利用两个所述导线的一第二端沿所述延伸方向缠绕一部份的所述本体部，并且分别通过两个所述容置槽； 实施一第二缠绕步骤：利用两个所述导线的所述第二端沿所述延伸方向缠绕另一部份的所述本体部； 实施一第二焊接步骤：利用焊接将两个所述导线的所述第二端分别固定于所述第二侧柱的两个所述设置台上的所述导电层；以及 实施一导通步骤：利用导电材料设置于任一个所述导线及其相邻的两个所述耦接台上的所述导电层之间，使两个所述导线各别电性耦接其相邻的两个所述耦接台上的所述导电层； 实施一切线步骤：利用物理方式沿两个所述切线槽切割两个所述导线，使两个所述导线形成四个子导线。

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