ASML控股股份有限公司克里斯托弗·迈克尔·多汉获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML控股股份有限公司申请的专利基于散射仪的粒子检查系统的改进对准获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115023604B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180011386.4，技术领域涉及：G01N21/94；该发明授权基于散射仪的粒子检查系统的改进对准是由克里斯托弗·迈克尔·多汉;詹姆斯·汉密尔顿·沃尔什;R·B·维纳设计研发完成，并于2021-01-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于散射仪的粒子检查系统的改进对准在说明书摘要公布了：描述了一种图案形成装置检查设备、系统和方法。根据一方面，披露了一种检查方法，所述方法包括在检查系统内的多元件检测器处接收在物体的表面处散射的辐射。所述方法还包括利用处理电路测量所述多元件检测器的每个元件的输出，所述输出对应于接收到的被散射的辐射。而且，所述方法包括利用处理电路，通过识别包括所述多元件检测器的具有高于预定阈值的被测量的输出的一个或更多个元件的有效像素区域，来校准所述多元件检测器。所述方法还包括识别包括所述多元件检测器的剩余元件的无效像素区域。另外，所述方法包括将所述有效像素区域设置为所述多元件检测器与引起所述被散射的辐射的光源之间的默认对准设置。
本发明授权基于散射仪的粒子检查系统的改进对准在权利要求书中公布了：1.一种检查方法，包括： 在检查系统内的多元件检测器处接收在物体的表面处散射的辐射； 利用处理电路测量所述多元件检测器的每个元件的输出，所述输出对应于接收到的被散射的辐射； 利用处理电路，通过识别包括所述多元件检测器的具有高于预定阈值的被测量的输出的一个或更多个元件的有效像素区域、以及识别包括所述多元件检测器的剩余元件的无效像素区域，来校准所述多元件检测器；以及 将所述有效像素区域设置为所述多元件检测器与引起所述被散射的辐射的光源之间的默认对准设置。
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