杭州易现先进科技有限公司李泽学获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州易现先进科技有限公司申请的专利生成场景地图的方法、系统、电子装置和存储介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114067063B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111211645.6,技术领域涉及:G06T17/05;该发明授权生成场景地图的方法、系统、电子装置和存储介质是由李泽学;张双力;丛林设计研发完成,并于2021-10-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本生成场景地图的方法、系统、电子装置和存储介质在说明书摘要公布了:本申请涉及一种生成场景地图的方法、系统、电子装置和存储介质,其中,该生成场景地图的方法包括:获取重复纹理图像,根据该重复纹理图像,确定场景图像集合中的重复纹理特征;对于该场景图像集合中的每张图像,确定其是否存在该重复纹理特征,若是,确定该重复纹理特征在该图像上的区域;去除该区域内的图像内容,得到目标场景图像集合,并根据该目标场景图像集合执行视觉重建,得到场景地图,或者,获取该区域外的图像特征,得到目标特征集合,并根据该目标特征集合执行视觉重建,得到场景地图,通过本申请,解决了相关技术中重建具有重复纹理的场景时,重建出来的场景地图存在空间错误的问题,可以得到正确的场景三维地图。
本发明授权生成场景地图的方法、系统、电子装置和存储介质在权利要求书中公布了:1.一种生成场景地图的方法,其特征在于,所述方法包括: 获取拍摄距离和角度不一致的重复纹理图像,根据所述重复纹理图像,确定场景图像集合中的重复纹理特征; 对于所述场景图像集合中的每张图像,确定其是否存在所述重复纹理特征,若是,确定所述重复纹理特征在所述图像上的区域,包括: 对于非法特征模式集合中的每个非法特征模式,在所述场景图像集合中的每张图像中确定其是否存在,若是,确定所述非法特征模式在所述图像中的区域,并用掩模覆盖所述区域,所述非法特征模式集合为所述重复纹理图像中重复纹理特征区域对应掩膜和所述重复纹理图像组合的集合; 去除所述区域内的图像内容,得到目标场景图像集合,并根据所述目标场景图像集合执行视觉重建,得到场景地图, 或者,获取所述区域外的图像特征,得到目标特征集合,并根据所述目标特征集合执行视觉重建,得到场景地图。
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