北京北方华创微电子装备有限公司徐玉凯获国家专利权
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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利半导体工艺设备及晶圆清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113990780B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111258374.X，技术领域涉及：H10P70/00；该发明授权半导体工艺设备及晶圆清洗方法是由徐玉凯;王欢设计研发完成，并于2021-10-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体工艺设备及晶圆清洗方法在说明书摘要公布了：本申请公开了一种半导体工艺设备及晶圆清洗方法，涉及半导体装备及工艺领域。一种半导体工艺设备包括：装载腔室、传输腔室、连接腔室、传输装置和清洗装置；装载腔室与传输腔室之间通过连接腔室连接，传输装置用于经过连接腔室由装载腔室向传输腔室传输晶圆，并在经过连接腔室时停止在设置于连接腔室中的预设清洗工位处，清洗装置设置于连接腔室中，用于对传输至清洗工位的晶圆进行清洗。一种晶圆清洗方法包括：通过传输装置将晶圆由装载腔室传输至清洗工位；通过清洗装置对晶圆进行清洗；通过传输装置将清洗完成后的晶圆由清洗工位传输至传输腔室。本申请能够解决晶圆表面的杂质导致电阻率不合格的问题。
本发明授权半导体工艺设备及晶圆清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种半导体工艺设备，其特征在于，包括：装载腔室、传输腔室、连接腔室、传输装置和清洗装置； 所述装载腔室与所述传输腔室之间通过所述连接腔室连接； 所述传输装置设于所述传输腔室中，并在所述装载腔室、所述连接腔室和所述传输腔室之间移动，用于经过所述连接腔室由所述装载腔室向所述传输腔室传输晶圆，并在经过所述连接腔室时停止在设置于所述连接腔室中的预设清洗工位处； 所述清洗装置设置于所述连接腔室中，用于在所述连接腔室内移动并发射等离子体以对停止在所述清洗工位的所述传输装置携带的所述晶圆进行清洗。
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