东京毅力科创株式会社斋藤道茂获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片处理装置用的部件和基片处理系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112992725B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011388754.0，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权基片处理装置用的部件和基片处理系统是由斋藤道茂;山平圣设计研发完成，并于2020-12-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片处理装置用的部件和基片处理系统在说明书摘要公布了：本发明提供一种基片处理装置用的部件和基片处理系统。该基片处理装置用的部件在上述部件的表面和或内部具有已加工的标记，上述标记构成为能够根据通过加工而形成于上述部件的槽和或两种以上的颜色来读取二维码信息。根据本发明能够提高基片处理装置用的部件的管理。
本发明授权基片处理装置用的部件和基片处理系统在权利要求书中公布了：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括： 处理腔室，其具有腔室主体； 作为所述基片处理装置用的部件的边缘环； 闸阀，其设置于所述腔室主体，开闭所述腔室主体的内部空间与所述处理腔室的外部之间的通路；和 读取器，其配置于所述闸阀， 所述读取器构成为能够读取对配置于所述内部空间中的所述边缘环的表面和或内部进行加工而得的标记， 所述边缘环的标记包含即使在所述处理腔室中反复进行处理而使所述边缘环的表面消耗的情况下也不会消失的深度的槽。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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