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武汉万集光电技术有限公司王泮义获国家专利权

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龙图腾网获悉武汉万集光电技术有限公司申请的专利一种反射率的测量方法、激光雷达装置及存储介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116165169B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111416910.4,技术领域涉及:G01N21/47;该发明授权一种反射率的测量方法、激光雷达装置及存储介质是由王泮义;李翔;李雪;张雪薇设计研发完成,并于2021-11-25向国家知识产权局提交的专利申请。

一种反射率的测量方法、激光雷达装置及存储介质在说明书摘要公布了:本发明公开了一种反射率的测量方法、激光雷达装置及存储介质,所述反射率的测量方法包括:获取激光雷达装置与被测物体之间的间距及回波信号的特征参数;获取第一预设特征关系式;根据所述第一预设特征关系式计算被测物体的反射率;其中,所述第一预设特征关系式为预先存储的所述特征参数与所述反射率的对应关系式。无需被测物体多次移动获得不同的距离,基于获取的第一预设特征关系式,根据特征参数及间距直接计算得到被测物体在任意距离下的反射率,该测量方法简单,标定过程简单,提高被测物体表面反射率的测量效率。

本发明授权一种反射率的测量方法、激光雷达装置及存储介质在权利要求书中公布了:1.一种反射率的测量方法,其特征在于,包括: 获取激光雷达装置与被测物体之间的间距及回波信号的特征参数;其中,所述特征参数与回波信号能量存在对应的单调关系; 获取第一预设特征关系式; 根据所述第一预设特征关系式计算被测物体的反射率;其中,所述第一预设特征关系式为预先存储的所述特征参数与所述反射率的对应关系式; 所述获取第一预设特征关系式,包括:获取预设反射率拟合关系式及第二预设特征关系式;根据所述预设反射率拟合关系式及所述第二预设特征关系式生成所述第一预设特征关系式;其中,所述预设反射率拟合关系式为反射率、间距及回波信号能量之间的关系式,所述第二预设特征关系式为所述特征参数与所述回波信号能量之间的关系式; 所述获取预设反射率拟合关系式,包括:预设若干个不同反射率的标准漫反射板;获取于预设标定间距下具有不同反射率的所述标准漫反射板反射的若干个预设标定回波信号能量;根据各所述预设标定回波信号能量确定在不同间距所对应的不同回波信号能量的反比关系式;根据各所述预设标定回波信号能量、所述反比关系式及反射率与回波信号能量之间的映射关系式,得到于不同间距下具有不同反射率的所述标准漫反射板对应的预设回波信号能量映射关系表;对所述预设回波信号能量映射关系表进行拟合处理,得到所述预设反射率拟合关系式。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人武汉万集光电技术有限公司,其通讯地址为:430070 湖北省武汉市东湖新技术开发区光谷大道77号金融后台服务中心基地建设项目二期B5栋6-7层01-04室;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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