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龙图腾网获悉河南平原光电有限公司申请的专利一种中小口径锗窗口高光洁度抛光方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115673881B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211339503.2，技术领域涉及：B24B1/00；该发明授权一种中小口径锗窗口高光洁度抛光方法是由白涛;田军;张成群;魏松坡;廉继西;张恒华;王苗苗;张树盛;郭浩宇;张勇;苏颖设计研发完成，并于2022-10-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种中小口径锗窗口高光洁度抛光方法在说明书摘要公布了：本发明属于锗窗口加工技术领域，具体地说，涉及一种中小口径锗窗口高光洁度抛光方法，其加工工艺路线为：精磨→粗抛光→精抛光→盘上修抛→盘下修抛。与现有技术相比，本发明所取得的有益效果是：本发明在古典光学加工法抛光锗窗口的基础上，提出了盘上修抛和盘下修抛相结合的抛光工艺，并对盘下修抛工艺进行了改进，有效提升了中小口径锗窗口的表面光洁度及抛光效率，同时不会对零件面形产生较大影响，有助于保证产品质量。

本发明授权一种中小口径锗窗口高光洁度抛光方法在权利要求书中公布了：1.一种中小口径锗窗口高光洁度抛光方法，所述中小口径锗窗口的外径介于50mm～150mm之间，其特征在于：包括如下步骤： 步骤一、精磨：在精磨抛光机上，用W14粒度的金刚砂对零件精磨20min，控制零件的矢高差在-1μm以内，表面粗糙度为Ra1.6μm，且零件面形不存在直径在0.7mm～1mm之间的大麻点，也不存在长度在15mm～20mm之间，宽度在0.07mm～0.1mm之间的大划痕； 步骤二、粗抛光：在精磨抛光机上，用W1粒度的氧化铝抛光液对零件进行粗抛光，控制零件面形在5道光圈内，表面粗糙度为Ra0.012μm，且零件面形不存在直径在0.7mm～1mm之间的大麻点，也不存在长度在15mm～20mm之间，宽度在0.07mm～0.1mm之间的大划痕； 步骤三、精抛光：在精磨抛光机上，用W0.3粒度的氧化铝抛光液继续对零件进行精抛光，控制零件面形在5道光圈以内，表面粗糙度为Ra0.012μm，且零件面形不存在直径在0.7mm～1mm之间的大砂眼，也不存在长度在15mm～20mm之间，宽度在0.07mm～0.1mm之间的大划痕；宽度0.07mm内的划痕数不多于10条； 步骤四、盘上修抛：在精磨抛光机上，用抛光绒布配合W0.25粒度的金刚石溶液对零件分别进行盘上修抛，控制零件面形在5道光圈以内，表面粗糙度为Ra0.012μm，表面光洁度为Ⅴ级以内；且零件面形不存在直径在0.7mm～1mm之间的大砂眼，也不存在长度在15mm～20mm之间，宽度在0.07mm～0.1mm之间的大划痕； 其中，精磨抛光机上的抛光模基底材料为铝，在抛光模的修抛面上涂抹厚度为3mm～5mm柏油层，然后在其表面再粘贴一层1mm～2mm抛光绒布层，从而制成修抛模，使用时将修抛模冲洗干净，将金刚石溶液均匀喷洒在抛光绒布层表面，再放上待加工零件即可进行盘上修抛； 步骤五、盘下修抛：零件在下盘清洗后安放在夹持工装内，在精磨抛光机上，用抛光绒布配合W0.25粒度的金刚石溶液对零件分别进行盘下修抛，控制零件面形在5道光圈以内，表面粗糙度为Ra0.012μm，表面光洁度为Ⅴ级以内，且零件面形不存在直径在0.7mm～1mm之间的大砂眼，也不存在长度在15mm～20mm之间，宽度在0.07mm～0.1mm之间的大划痕。

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