昂纳科技(深圳)集团股份有限公司廖亮获国家专利权
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龙图腾网获悉昂纳科技(深圳)集团股份有限公司申请的专利一种反射型双级隔离器及通信模组获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224020020U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520542486.5，技术领域涉及：G02B6/27；该实用新型一种反射型双级隔离器及通信模组是由廖亮设计研发完成，并于2025-03-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种反射型双级隔离器及通信模组在说明书摘要公布了：本实用新型涉及光学元件技术领域，具体涉及一种反射型双级隔离器及通信模组。反射型双级隔离器包括沿光路依次设置的第一晶体、第二晶体、半波片、旋光片及反射元件，其中第一晶体和第二晶体的错位方向相互垂直；在X方向，半波片的高度小于旋光片的高度，入射光入射至第一晶体、并依次经过第二晶体、半波片、旋光片后，被反射元件反射，反射光依次经过旋光片、第二晶体和第一晶体后出射；在Y方向，半波片的高度与旋光片的高度相同，入射光入射至第一晶体、并依次经过第二晶体、半波片、旋光片后，被反射元件反射，反射光依次经过旋光片、半波片、第二晶体和第一晶体后出射。以上结构沿光路能够从第一晶体的同一侧出射，以适应特殊的应用环境。
本实用新型一种反射型双级隔离器及通信模组在权利要求书中公布了：1.一种反射型双级隔离器，其特征在于，包括： 沿光路依次设置的第一晶体、第二晶体、半波片、旋光片以及反射元件，其中，所述第一晶体和所述第二晶体的错位方向相互垂直； 在X方向，所述半波片的高度小于所述旋光片的高度，入射光入射至第一晶体、并依次经过第二晶体、半波片、旋光片后，被所述反射元件反射，反射光依次经过所述旋光片、所述第二晶体和所述第一晶体后出射； 在Y方向，所述半波片的高度与所述旋光片的高度相同，入射光入射至第一晶体、并依次经过第二晶体、半波片、旋光片后，被所述反射元件反射，反射光依次经过所述旋光片、所述半波片、所述第二晶体和所述第一晶体后出射。
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