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龙图腾网获悉大连经济技术开发区大山表面处理有限公司申请的专利一种全密封结晶器铜管流镀设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224015802U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520749095.0，技术领域涉及：C25D17/00；该实用新型一种全密封结晶器铜管流镀设备是由蒋德军;赵思萌;滕野;高健东设计研发完成，并于2025-04-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种全密封结晶器铜管流镀设备在说明书摘要公布了：本实用新型涉及一种全密封结晶器铜管流镀设备，对回液箱体机构和进液密封底座进行完全密封设计，回液箱体机构只保留底部与阳极主体和工件铜管上端对接部分，用于与二者支撑和密封，将进液管采用导电材质并且设计在进液密封底座上，进液密封底座采用铜管底部密封盘和工位底板分别用于阳极主体和工件铜管的底部的支撑和密封，并将进液管安装在工位底板上，不仅实现从下端对阳极主体进行接电，避免现有结构从上部接电的出现漏液、渗液的现象，同时也实现下端的密封性，避免现有技术下端的采用支撑槽形式，彻底杜绝镀液与外界接触。

本实用新型一种全密封结晶器铜管流镀设备在权利要求书中公布了：1.一种全密封结晶器铜管流镀设备，包括支撑架主体1、下压机构2、回液箱体机构3、阳极主体4、进液密封底座5及阴极接线机构6，其特征在于， 进液密封底座5包括铜管底部密封盘50、工位底板51和底座支撑板52， 工位底板51上设有导电进液管8，导电进液管8上端部安装导电板80，阳极主体4底部装配在导电板80上，导电板80上沿圆周方向设置若干通孔801，通孔801位置介于导电板80边沿与阳极主体4之间，工位底板51设置在底座支撑板52上，导电进液管8的进液管段位于底座支撑板52下方， 铜管底部密封盘50上设有第一通液口500，第一通液口500的表面外沿设有第一密封槽口501，用于安置工件铜管900的下端，铜管底部密封盘50安装在工位底板51上，保证导电进液管8与第一通液口500同心， 回液箱体机构3包括箱体主体30、上密封板31和下密封板32，箱体主体30为底面开口的密封箱体，箱体主体30上设有回液管33，箱体主体30的底面安装在上密封板31上，上密封板31安装在下密封板32上，其中，上密封板31上设有适配于阳极主体4上端部的对接口310，下密封板32上设有第二通液口320，第二通液口320的下表面外沿设有第二密封槽口321，用于安置工件铜管900的上端，对接口310与第二通液口320同心， 回液箱体机构3安装在下压机构2上，下压机构2安装在支撑架主体1上，下压机构2下降最大行程使下密封板32的第二密封槽口321与工件铜管900上端面密封对接，且保证阳极主体4的上端嵌入上密封板31的对接口310内，阴极接线机构6用于与工件铜管900外壁连接。

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