中国医科大学;辽宁超检科技有限公司李晨获国家专利权
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龙图腾网获悉中国医科大学;辽宁超检科技有限公司申请的专利一种具有自清洁功能的固态纳米孔获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224015627U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520599934.5，技术领域涉及：C12M1/00；该实用新型一种具有自清洁功能的固态纳米孔是由李晨;李倩曦;张延昭;张双娇;裴津;郭大可;程加新设计研发完成，并于2025-04-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种具有自清洁功能的固态纳米孔在说明书摘要公布了：本实用新型涉及固态纳米孔技术领域，公开了一种具有自清洁功能的固态纳米孔。该装置主要由硅片和基底构成，详细来说，硅片被精确地放置并固定在基底的表面上，而在这硅片的表面则精心设计并制作了一个倒梯形微腔，这个倒梯形微腔的构造是经过深思熟虑的，旨在优化装置的性能。在基底的表面，我们还特别设计并制造了一个固态纳米孔，这个固态纳米孔的位置是位于倒梯形微腔的正下方，固态纳米孔的内壁上设有二氧化钛层，这种材料具有光催化特性，可以在光照条件下分解有机物，从而实现自清洁效果，减少污染和堵塞。倒梯形微腔的设计可以有效收集和引导液体流动，有助于提高自清洁效率。
本实用新型一种具有自清洁功能的固态纳米孔在权利要求书中公布了：1.一种具有自清洁功能的固态纳米孔，其特征在于：包括硅片1和基底2，所述硅片1设于所述基底2上，所述硅片1上设有倒梯形微腔3； 所述基底2上设有固态纳米孔4，所述固态纳米孔4位于所述倒梯形微腔3的下方，所述固态纳米孔4的内壁上设有自清洁层5，所述自清洁层5为二氧化钛层； 所述硅片1上方生长有氧化硅层6，在氧化硅层6下方沉积有氮化硅层7，所述氮化硅层7与所述基底2紧邻设置。
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