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龙图腾网获悉长沙元戎科技有限责任公司申请的专利一种可调磁控溅射环装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121362953B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511923268.7，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种可调磁控溅射环装置是由齐卫冲设计研发完成，并于2025-12-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种可调磁控溅射环装置在说明书摘要公布了：本发明涉及磁控溅射技术领域，具体地说，涉及一种可调磁控溅射环装置。其包括基座和基座顶部密封安装的密封罩，所述基座与密封罩内腔之间形成真空环境，其特征在于：所述基座顶部设置有磁体腔，所述磁体腔内部形成有中心磁区和延伸磁区。本发明通过液压推杆驱动外环靶材升降，与连接组件的分区固定，在仅使用中心靶材时，可将外环靶材移至中心区域磁场与电场范围外，从源头减少边缘效应引发的无效溅射，使中心、外环靶材可按需单独或协同工作，进一步降低非工作区域靶材的损耗，提升靶材资源的精准利用率，避免外环靶材的不必要消耗，延长靶材整体使用寿命。

本发明授权一种可调磁控溅射环装置在权利要求书中公布了：1.一种可调磁控溅射环装置，包括基座1和基座1顶部密封安装的密封罩2，所述基座1与密封罩2内腔之间形成真空环境，其特征在于：所述基座1顶部设置有磁体腔3，所述磁体腔3内部形成有中心磁区和延伸磁区； 所述磁体腔3顶部还设置有中心靶材6和外环靶材5，所述中心靶材6尺寸面积对应中心磁区，且位于中心磁区正上方，所述外环靶材5尺寸面积对应延伸磁区，且位于延伸磁区正上方； 所述基座1内腔底部嵌设有液压推杆34，所述液压推杆34的活塞杆驱使所述外环靶材5上下移动，其中： 所述外环靶材5处于延伸磁区范围的溅射镀膜尺寸大于所述外环靶材5上移脱离延伸磁区范围的溅射镀膜尺寸； 所述中心磁区内安装有中心磁体31与内环磁体32，所述中心磁体31位于磁体腔3中心处，所述内环磁体32被设置为围绕中心磁体31环形均匀安装，所述内环磁体32与中心磁体31位于上方的磁极彼此相反设置； 所述延伸磁区内安装有外环磁体33，且外环磁体33环绕内环磁体32均匀设置，所述外环磁体33包括一组N极向上的单磁体与一组S极向上的单磁体，且与内环磁体32相互靠近的一组单磁体位于上方的磁极与内环磁体32彼此相反设置。

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