矽品精密工业股份有限公司陈敬文获国家专利权
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龙图腾网获悉矽品精密工业股份有限公司申请的专利半导体结构获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223993895U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-13发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520403529.1,技术领域涉及:H10W70/62;该实用新型半导体结构是由陈敬文;李哲仰;蔡宜达设计研发完成,并于2025-03-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体结构在说明书摘要公布了:本申请涉及一种半导体结构,主要提供一半导体基材,定义有相邻的作用区及闲置区,其中,该作用区设有多个半导体基材单元,且各该半导体基材单元定义有电性接点密集区及电性接点稀疏区,并于该作用区的各该半导体基材单元上电镀形成多个导电凸块,以及于该闲置区电镀形成多个电流控制凸块,避免电镀电流分布不均匀问题。
本实用新型半导体结构在权利要求书中公布了:1.一种半导体结构,其特征在于,包括: 一半导体基材,定义有作用区及闲置区,其中,该作用区设有多个半导体基材单元,且各该半导体基材单元定义有电性接点密集区及电性接点稀疏区; 多个导电凸块,形成于该作用区的各该半导体基材单元上;以及 多个电流控制凸块,形成于该闲置区上,其中,该电性接点密集区的多个导电凸块的密度大于该闲置区的多个电流控制凸块的密度,且该闲置区的多个电流控制凸块的密度大于该电性接点稀疏区的多个导电凸块的密度。
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