深圳市志凌伟业技术股份有限公司苏伟获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市志凌伟业技术股份有限公司申请的专利一种透明电磁屏蔽膜获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223993831U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-13发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520201342.3,技术领域涉及:H05K9/00;该实用新型一种透明电磁屏蔽膜是由苏伟;焦贵省设计研发完成,并于2025-02-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种透明电磁屏蔽膜在说明书摘要公布了:本实用新型公开了一种透明电磁屏蔽膜,包括透明电磁屏蔽膜,透明电磁屏蔽膜的顶部设置有第二玻璃,透明电磁屏蔽膜的底部设置有第一玻璃,透明电磁屏蔽膜与第二玻璃之间设置有第二透明黏胶,透明电磁屏蔽膜与第一玻璃之间设置有第一透明黏胶,透明电磁屏蔽膜包括透明基材和金属导电网格,金属导电网格在透明基材上直接成型,金属导电网格包括第一金属导电网格和第二金属导电网格;本实用新型通过采用上下两层金属导电网格的交错分布设计,形成更均匀和完整的电磁屏蔽效果,有效提高屏蔽膜的屏蔽效能,解决高透明度屏蔽膜屏蔽效能不足的问题,并且将透明电磁屏蔽膜夹在两层玻璃之间,形成夹层结构,增强整体结构的机械强度和耐用性。
本实用新型一种透明电磁屏蔽膜在权利要求书中公布了:1.一种透明电磁屏蔽膜,包括透明电磁屏蔽膜2,其特征在于:所述透明电磁屏蔽膜2的顶部设置有第二玻璃5,透明电磁屏蔽膜2的底部设置有第一玻璃1,透明电磁屏蔽膜2与第二玻璃5之间设置有第二透明黏胶4,透明电磁屏蔽膜2与第一玻璃1之间设置有第一透明黏胶3,透明电磁屏蔽膜2包括透明基材21和金属导电网格22,金属导电网格22在透明基材21上直接成型。
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