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龙图腾网获悉匠岭科技(上海)有限公司申请的专利偏移信息计算方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121452966B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610019781.1，技术领域涉及：G01B11/27；该发明授权偏移信息计算方法是由唐毅成;孙振;高海军;党江涛;张海设计研发完成，并于2026-01-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本偏移信息计算方法在说明书摘要公布了：本申请涉及半导体制造领域，公开了一种偏移信息计算方法。偏移信息计算方法包括：获取视觉组件在相对放置的第一晶圆与第二晶圆之间采集的第一待处理图像和至少一个第二待处理图像；对第一待处理图像进行处理，得到第一距离信息、角度偏移量；对第二待处理图像进行处理，得到第二距离信息；对第一距离信息和第二距离信息进行拟合计算，得到第二晶圆相对第一晶圆的第一横向偏移量和第二横向偏移量，并将第一横向偏移量、第二横向偏移量、角度偏移量作为偏移信息。根据本申请实施例的偏移信息计算方法，提高两个晶圆之间偏移信息的获取效率。

本发明授权偏移信息计算方法在权利要求书中公布了：1.一种偏移信息计算方法，其特征在于，包括： 获取视觉组件在相对放置的第一晶圆与第二晶圆之间采集的第一待处理图像和至少一个第二待处理图像，所述第一待处理图像中包括所述第一晶圆边缘的第一凹口的图像和所述第二晶圆边缘的第二凹口的图像，所述第二待处理图像中包括部分第一晶圆边缘的图像和部分第二晶圆边缘的图像，所述第一凹口、所述第二凹口均为对称图案； 对所述第一待处理图像进行处理，得到第一距离信息、角度偏移量，包括：在所述第一待处理图像中确定第一分界线，并识别所述第一待处理图像中位于所述第一分界线两侧、且分别对应所述第一晶圆边缘和所述第二晶圆边缘的第一轮廓线和第二轮廓线，基于所述第一轮廓线中凹口的对称点处的第一切线、以及所述第二轮廓线的镜像线中凹口的对称点处的第二切线，确定第一距离信息、角度偏移量； 对所述第二待处理图像进行处理，得到第二距离信息，所述第一距离信息、所述第二距离信息分别表示对应待处理图像中所述第二晶圆相对所述第一晶圆的偏移像素值； 对所述第一距离信息和所述第二距离信息进行拟合计算，得到所述第二晶圆相对所述第一晶圆的第一横向偏移量和第二横向偏移量，并将所述第一横向偏移量、所述第二横向偏移量、所述角度偏移量作为所述偏移信息。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人匠岭科技(上海)有限公司，其通讯地址为：201306 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区环湖西二路888号C楼；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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