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长春理工大学孙高飞获国家专利权

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龙图腾网获悉长春理工大学申请的专利杂光抑制能力测试系统获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN121431025B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-13发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202512019416.9,技术领域涉及:G01M11/02;该发明授权杂光抑制能力测试系统是由孙高飞;代智博;张杰瑞;郭慧洋;王普莫;郑哲煊;徐达;付强;孟遥;刘石设计研发完成,并于2025-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。

杂光抑制能力测试系统在说明书摘要公布了:本发明本属于杂光抑制领域,尤其涉及一种杂光抑制能力测试系统,包括:用于发出杂光的杂光模拟源、及分别设置在光学暗箱内的杂光入射角调整模块、位姿调整模块、辐照检测模块、环境检测模块、背景消光腔、杂光抑制模块,杂光入射角调整模块用于调整进入光学暗箱的杂光角度;位姿调整模块用于调节待测光学系统的位姿;辐照检测模块用于测量待测光学系统入光口处的辐照度;环境检测模块用于测量待测光学系统视场内的环境杂光能量;背景消光腔用于吸收待测光学系统视场内的残余杂光;杂光抑制模块用于吸收待测光学系统视场外的残余杂光。本发明通过系统性的创新设计,全面提升了光学系统杂光抑制能力测试的精度、效率与可靠性。

本发明授权杂光抑制能力测试系统在权利要求书中公布了:1.一种杂光抑制能力测试系统,其特征在于,包括: 杂光模拟源,其用于发出光束模拟杂光; 光学暗箱,其设置在杂光模拟源的出射方向上,在光学暗箱的内壁上涂覆有消光膜; 可变光阑,其设置在光学暗箱上正对杂光模拟源的位置; 杂光入射角调整模块,其设置在光学暗箱内,用于调整进入光学暗箱的杂光的角度; 位姿调整模块,其设置在光学暗箱内,待测光学系统设置在位姿调整模块上,位姿调整模块用于调节待测光学系统的五个自由度; 辐照检测模块,其设置在光学暗箱内,用于测量待测光学系统入光口处的辐照度; 环境检测模块,其设置在光学暗箱内,用于测量待测光学系统视场内的环境杂光能量; 背景消光腔,其设置在光学暗箱内,用于吸收待测光学系统视场内的残余杂光; 杂光抑制模块,其设置在光学暗箱内,用于吸收待测光学系统视场外的残余杂光; 计算机,用于分别对可变光阑、杂光入射角调整模块、待测光学系统、位姿调整模块、辐照检测模块和环境检测模块进行控制。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人长春理工大学,其通讯地址为:130022 吉林省长春市朝阳区卫星路7089号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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