上海彤程电子材料有限公司;北京科华微电子材料有限公司;北京大学王璨获国家专利权
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龙图腾网获悉上海彤程电子材料有限公司;北京科华微电子材料有限公司;北京大学申请的专利一种负性光刻胶组合物及其用途获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120178598B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510374412.X，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权一种负性光刻胶组合物及其用途是由王璨;张宁;李冰;鲁代仁;裴坚;董栋设计研发完成，并于2025-03-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种负性光刻胶组合物及其用途在说明书摘要公布了：本发明提供了一种负性光刻胶组合物及其用途，涉及光刻技术领域。该负性光刻胶组合物，原料组分包括：溶质和第一溶剂；其中，所述溶质包括70wt％‑96wt％碱溶性树脂、1wt％‑30wt％光致产酸剂、1wt％‑20wt％交联剂、0.1wt％‑15wt％酸淬灭剂、0.01wt％‑3wt％表面活性剂和0.1wt％‑0.2wt％特殊添加剂；所述特殊添加剂为有机胺类化合物；所述第一溶剂的质量为碱溶性树脂质量的1‑15倍。本发明通过使用特定种类的有机胺类化合物作为特殊添加剂，能够改善光刻胶底角及驻波等缺陷问题。
本发明授权一种负性光刻胶组合物及其用途在权利要求书中公布了：1.一种负性光刻胶组合物，其特征在于，原料组分包括：溶质和第一溶剂； 其中，所述溶质由以下重量份的组分制成：70wt%-96wt%碱溶性树脂、1wt%-30wt%光致产酸剂、1wt%-20wt%交联剂、0.1wt%-15wt%酸淬灭剂、0.01wt%-3wt%表面活性剂和0.14wt%-0.17wt%特殊添加剂； 所述第一溶剂的质量为碱溶性树脂质量的1-15倍； 所述特殊添加剂选自 、、、中的至少一种； 所述交联剂为1,3,4,6四甲氧甲基甘脲交联剂。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人上海彤程电子材料有限公司;北京科华微电子材料有限公司;北京大学，其通讯地址为：201507 上海市奉贤区化学工业区目华路201号1幢20层05室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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