哈尔滨工程大学任晶获国家专利权
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龙图腾网获悉哈尔滨工程大学申请的专利一种Ce3+掺杂硅硼钆闪烁玻璃及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119977326B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510274513.X，技术领域涉及：C03C4/12；该发明授权一种Ce3+掺杂硅硼钆闪烁玻璃及其制备方法和应用是由任晶;花春帅;刘闯;郑晓鑫设计研发完成，并于2025-03-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种Ce3+掺杂硅硼钆闪烁玻璃及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：一种Ce3+掺杂硅硼钆闪烁玻璃及其制备方法和应用，属于闪烁发光材料技术领域。该Ce3+掺杂硅硼钆闪烁玻璃，主体组分包括的成分及其摩尔百分比为：SiO2为5％、B2O3为25％、Gd2O3为25％、GdF3为40‑10％，X为5‑35％；X为MgF2、LiF、BaO、BaF2中的一种或几种，主体组分之和为100mol％；还原剂，按质量比，Ce3+掺杂硅硼钆闪烁玻璃：还原剂＝6‑2:1；外掺Ce3+的占主体组分的摩尔百分比为1％‑2％。制备的Ce3+掺杂硅硼钆闪烁玻璃具有高光产额、X射线成像分辨率和高密度闪烁玻璃的量子效率，并且降低了高密度闪烁玻璃的制备成本。
本发明授权一种Ce3+掺杂硅硼钆闪烁玻璃及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种Ce3+掺杂硅硼钆闪烁玻璃，其特征在于：该Ce3+掺杂硅硼钆闪烁玻璃，包括主体组分、还原剂和外掺Ce3+； 主体组分包括的成分及其各个成分的摩尔百分比分别为SiO2为5％、B2O3为25％、Gd2O3为25％、GdF3为40-10％，X为5-35％；X为MgF2、LiF中的一种或几种，主体组分之和为100mol％； 按质量比，Ce3+掺杂硅硼钆闪烁玻璃：还原剂＝6-2:1； 外掺Ce3+占主体组分的摩尔百分比为1％-2％； 所述的Ce3+掺杂硅硼钆闪烁玻璃为非晶体，密度为5.3-5.9gcm3，光产额为1223-2100phMeV，X射线成像线对数在14-26lpmm，量子效率为59.65～85.00％。
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