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龙图腾网获悉福建理工大学申请的专利一种基于电磁微波辅助抛光系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119609777B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510112005.1，技术领域涉及：B24B1/00；该发明授权一种基于电磁微波辅助抛光系统是由许永超;赵嘉辰;王乾廷;詹友基;陈丙三设计研发完成，并于2025-01-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于电磁微波辅助抛光系统在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于电磁微波辅助抛光系统，涉及抛光的技术领域，其包括抛光机上机头、抛光机主轴、导电滑环、载物盘、微波发射装置、抛光机下盘以及控制器；抛光机主轴设置在所示抛光机上机头的底部，导电滑环设置在抛光机主轴的底部；控制器通过导线与导电滑环电连接；导电滑环与微波发射装置电连接；抛光机主轴通过主轴接头与载物盘固定设置；抛光机下盘布置在载物盘的底部；微波发射装置设置在载物盘的内腔中，用于对加工区域水分子摩擦提升温度；载物盘的底部开设有载物凹槽，载物凹槽上开设有多个载物凹槽开孔，能够实现对使加工区水分子摩擦震动，改变加工区温度，对磨料的分散性有一定改善。

本发明授权一种基于电磁微波辅助抛光系统在权利要求书中公布了：1.一种基于电磁微波辅助抛光系统，其特征在于，包括： 抛光机上机头1、抛光机主轴2、导电滑环3、载物盘5、微波发射装置、抛光机下盘6以及控制器8； 所述抛光机主轴2设置在所示抛光机上机头1的底部，所述导电滑环3设置在所述抛光机主轴2的底部； 所述控制器8通过导线7与所述导电滑环3电连接； 所述导电滑环3与所述微波发射装置电连接； 所述抛光机主轴2通过主轴接头4与所述载物盘5固定设置； 所述抛光机下盘6布置在所述载物盘5的底部； 所述微波发射装置设置在所述载物盘5的内腔中，用于对加工区域水分子摩擦提升温度； 所述载物盘5的底部开设有载物凹槽15，所述载物凹槽15上开设有多个载物凹槽开孔14； 所述微波发射装置包括磁控管20、磁控管发射端口21与磁控管出线端子10； 所述载物盘5的内部开设有载物盘内线槽16，所述磁控管出线端子10装配在所述载物盘内线槽16的出口处； 所述磁控管20装配在所述载物盘5的内腔中，所述磁控管出线端子10通过磁控管电源线17与所述磁控管20电连接，所述磁控管发射端口21装配在所述磁控管20的底部； 所述磁控管出线端子10与所述导电滑环3电连接。

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