沈阳芯源微电子设备股份有限公司郭东获国家专利权
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龙图腾网获悉沈阳芯源微电子设备股份有限公司申请的专利一种流体处理装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119572956B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-13发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510138487.8,技术领域涉及:F17D3/01;该发明授权一种流体处理装置是由郭东;田冲设计研发完成,并于2025-02-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种流体处理装置在说明书摘要公布了:本发明公开了一种流体处理装置,涉及半导体流体输送技术领域,包括:流体控制本体,开设有用于储存流体的暂存腔;调整件,活动连接在所述暂存腔内,所述流体控制本体与所述调整件之间形成有活动间隙,所述调整件用于调整所述暂存腔的内部容积;形变件,一侧边缘与所述流体控制本体的侧壁连接,形变件的另一侧边缘与调整件伸入所述暂存腔的一端连接,形变件伴随所述调整件的移动封堵所述调整件与所述流体控制本体之间的活动间隙;其中,流体控制本体还开设有入口流道和出口流道,入口流道与所述暂存腔相互连通,所述出口流道与所述活动间隙相互连通。本发明能够优化半导体制造工艺流体传输过程,减少光刻胶浪费并抑制或者改善湿颗粒物现象。
本发明授权一种流体处理装置在权利要求书中公布了:1.一种流体处理装置,用于处理易变质或者易析出颗粒的流体,其特征在于,包括: 流体控制本体,开设有用于储存流体的暂存腔; 调整件,活动连接在所述暂存腔内,所述流体控制本体与所述调整件之间形成有活动间隙,所述调整件用于调整所述暂存腔的内部容积; 形变件,一侧边缘与所述流体控制本体的侧壁连接,所述形变件的另一侧边缘与所述调整件伸入所述暂存腔的一端连接,所述形变件伴随所述调整件的移动封堵所述调整件与所述流体控制本体之间的活动间隙; 其中,所述流体控制本体还开设有入口流道和出口流道,所述入口流道与所述暂存腔相互连通,所述出口流道与所述活动间隙相互连通,所述出口流道与所述暂存腔之间还设置有第一流道,所述第一流道位于所述流体控制本体与所述调整件之间,所述第一流道用于连通所述出口流道与所述暂存腔,所述第一流道开设在所述调整件上; 所述暂存腔沿水平方向分布,所述调整件沿所述暂存腔的延伸方向水平活动; 所述流体控制本体开设有循环流道,所述循环流道与所述暂存腔相互连通; 所述循环流道与所述暂存腔之间还设置有第二流道,所述第二流道位于所述流体控制本体与所述调整件之间,所述第二流道用于连通所述循环流道与所述暂存腔,所述第二流道开设在所述调整件上; 所述暂存腔具有轴线,所述入口流道和所述出口流道位于所述暂存腔的轴线靠近地面的一侧,所述循环流道位于所述暂存腔的轴线远离地面的一侧; 所述暂存腔内设置有导流环,所述导流环一侧端口与所述第一流道相互连通,另一侧端口与所述暂存腔相互连通; 所述暂存腔的流体流出时依次经过所述活动间隙、所述第一流道和所述出口流道。
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