江阴江化微电子材料股份有限公司顾梦佳获国家专利权
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龙图腾网获悉江阴江化微电子材料股份有限公司申请的专利一种混酸型纯钼蚀刻液及纯钼膜层的蚀刻方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117646215B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311601966.6，技术领域涉及：C23F1/26；该发明授权一种混酸型纯钼蚀刻液及纯钼膜层的蚀刻方法是由顾梦佳;沈夏军;徐杨;章佳寅;吴晓芳;朱龙;李涛设计研发完成，并于2023-11-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种混酸型纯钼蚀刻液及纯钼膜层的蚀刻方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种混酸型纯钼蚀刻液，按质量百分比计，主要组成为：2％～7％的硝酸、50％～60％的磷酸、21％～30％的乙酸、2.5％～7％的添加剂以及6％～17％的去离子水；添加剂为选自磷酸盐、硝酸盐、乙酸盐、钼酸盐、磷酸氢盐中两种以上的组合。该混酸型纯钼蚀刻液在硝酸、磷酸和乙酸的混酸体系基础上添加盐，利用优化的各酸组分含量和盐添加剂，调节对纯钼的蚀刻速率，使混酸型纯钼蚀刻液兼容于各种厚度的钼单层蚀刻，蚀刻倾角稳定于40～55°，并且有效减小钼层的关键尺寸偏差，满足各种厚度纯钼层的蚀刻技术要求；该蚀刻液的钼离子负载最高可达5000ppm，使用寿命较长。本发明还公开了一种纯钼膜层的蚀刻方法。
本发明授权一种混酸型纯钼蚀刻液及纯钼膜层的蚀刻方法在权利要求书中公布了：1.一种混酸型纯钼蚀刻液，其特征在于，按质量百分比计，主要组成为：2％～7％的硝酸、50％～60％的磷酸、21％～30％的乙酸、2.5％～7％的添加剂以及6％～17％的去离子水； 所述添加剂为磷酸盐和硝酸盐，所述磷酸盐为磷酸钾，所述硝酸盐为硝酸钾。
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