京东方科技集团股份有限公司张子越获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利一种缺陷检测模型的迁移方法、装置、设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117292214B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311175817.8，技术领域涉及：G06V10/771；该发明授权一种缺陷检测模型的迁移方法、装置、设备及存储介质是由张子越;谷玉;房浩设计研发完成，并于2023-09-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种缺陷检测模型的迁移方法、装置、设备及存储介质在说明书摘要公布了：本发明公开了一种缺陷检测模型的迁移方法、装置、设备及存储介质。所述方法包括：获取预先训练的缺陷特征提取模型，以及缺陷特征集合；缺陷特征提取模型用于，针对具有相似已知缺陷的不同产品图像，提取出相似度大于第一预设相似度的不同已知缺陷特征；缺陷特征集合中包括，缺陷特征提取模型提取出的已知缺陷特征；将具有新缺陷的新缺陷产品图像输入缺陷特征提取模型，得到新缺陷特征；在缺陷特征集合中，针对与新缺陷特征的相似度满足预设相似度条件的已知缺陷特征，将对应已知缺陷确定为备选缺陷；针对所确定的备选缺陷对应的缺陷检测模型，利用新缺陷产品图像进行迁移训练，得到用于检测输入的产品图像是否具有新缺陷的新缺陷检测模型。
本发明授权一种缺陷检测模型的迁移方法、装置、设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种缺陷检测模型的迁移方法，其特征在于，预先设置有至少两种已知缺陷，以及与不同已知缺陷一一对应的不同缺陷检测模型；所述缺陷检测模型用于检测输入的产品图像是否具有对应的已知缺陷； 所述方法包括： 获取预先训练的缺陷特征提取模型，以及缺陷特征集合； 所述缺陷特征提取模型用于，针对具有相似已知缺陷的不同产品图像，提取出相似度大于第一预设相似度的不同已知缺陷特征；所述缺陷特征集合中包括，所述缺陷特征提取模型针对具有已知缺陷的已知缺陷产品图像，提取出的已知缺陷特征； 将具有新缺陷的新缺陷产品图像输入所述缺陷特征提取模型，得到新缺陷特征； 在所述缺陷特征集合中，针对与所述新缺陷特征的相似度满足预设相似度条件的已知缺陷特征，将对应已知缺陷确定为备选缺陷； 针对所确定的备选缺陷对应的缺陷检测模型，利用所获取的新缺陷产品图像进行迁移训练，得到用于检测输入的产品图像是否具有新缺陷的新缺陷检测模型。
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