株式会社斯库林集团吉田幸史获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社斯库林集团申请的专利自组装单分子膜去除液、以及使用其的基板处理方法及基板处理装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117327420B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-10发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310627484.1,技术领域涉及:C09D9/00;该发明授权自组装单分子膜去除液、以及使用其的基板处理方法及基板处理装置是由吉田幸史;宮本泰治设计研发完成,并于2023-05-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本自组装单分子膜去除液、以及使用其的基板处理方法及基板处理装置在说明书摘要公布了:本发明涉及一种自组装单分子膜去除液、以及使用其的基板处理方法及基板处理装置。本发明是一种自组装单分子膜去除液,其用于选择性地去除设置在基板表面的自组装单分子膜,且所述自组装单分子膜去除液的汉森溶解度参数位于在汉森溶解度参数空间上由中心值δd1、δp1、δh1[MPa12]和球半径R1[MPa12]所规定的所述自组装单分子膜的形成材料的第1汉森球1内,并且,位于在汉森溶解度参数空间上由中心值δd2、δp2、δh2[MPa12]和球半径R2[MPa12]所规定的所述自组装单分子膜的第2汉森球2内。
本发明授权自组装单分子膜去除液、以及使用其的基板处理方法及基板处理装置在权利要求书中公布了:1.一种自组装单分子膜去除液的去除包含十八烷基膦酸的自组装单分子膜的应用,所述自组装单分子膜去除液用于选择性地去除设置在基板表面的自组装单分子膜,且 所述自组装单分子膜去除液的汉森溶解度参数位于在汉森溶解度参数空间上由中心值δd1、δp1、δh1[MPa12]及球半径R1[MPa12]所规定的所述自组装单分子膜的形成材料的第1汉森球内, 并且,位于在汉森溶解度参数空间上由中心值δd2、δp2、δh2[MPa12]及球半径R2[MPa12]所规定的所述自组装单分子膜的第2汉森球内, 所述自组装单分子膜的形成材料为十八烷基膦酸, 所述自组装单分子膜包含所述十八烷基膦酸的单分子膜, 所述第1汉森球是在汉森溶解度参数空间上由中心值δd1、δp1、δh1=16.9±0.2、5.4±0.5、11.7±0.3[MPa12]、球半径R1=3.7[MPa12]所规定, 所述第2汉森球是在汉森溶解度参数空间上由中心值δd2、δp2、δh2=16.4±0.7、6.1±1.2、0.0±2.0[MPa12]、球半径R2=10.2[MPa12]所规定, 所述自组装单分子膜去除液为以下1~4的有机溶剂中的任一者: 1选自由1-丁醇、2-丁醇、1-戊醇及苄醇所组成的群中的至少1种有机溶剂; 2包含四氢呋喃、1-丁醇及苄醇的有机溶剂; 3包含四氢呋喃、2-丁醇及苄醇的有机溶剂; 4包含四氢呋喃、1-戊醇及苄醇的有机溶剂。
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