上海集成电路材料研究院有限公司朱峻立获国家专利权
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龙图腾网获悉上海集成电路材料研究院有限公司申请的专利一种含吗啉环水溶性小分子的用途及化学机械抛光液获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117229716B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311067216.5，技术领域涉及：C09G1/02；该发明授权一种含吗啉环水溶性小分子的用途及化学机械抛光液是由朱峻立;刘奕然;朱雷;俞文杰设计研发完成，并于2023-08-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种含吗啉环水溶性小分子的用途及化学机械抛光液在说明书摘要公布了：本发明公开一种含吗啉环水溶性小分子作为原料组分在化学机械抛光液中用于减少硅晶圆边缘区域塌边量的用途。该技术方案能够在不显著影响硅晶圆抛光速率的前提下，有效减少硅晶圆外周边的塌边量，改善硅晶圆边缘区域平坦度，既满足了生产中对硅晶圆平坦化的需要又保证了后续工艺步骤的质量和性能。
本发明授权一种含吗啉环水溶性小分子的用途及化学机械抛光液在权利要求书中公布了：1.一种含吗啉环水溶性小分子作为原料组分在化学机械抛光液中用于减少硅晶圆边缘区域塌边量的用途； 所述含吗啉环水溶性小分子包括2,2-二吗啉基二乙基醚、三4-吗啉基氧化膦、二吗啉甲酮和4-2-甲氧基乙基吗啉中的一种或多种； 所述化学机械抛光液的原料组分还包括磨料、碱性化合物和水； 所述化学机械抛光液pH为10～12。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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