株式会社理光大岛久庆获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社理光申请的专利液滴形成装置和微粒子制造装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116507498B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180073682.7，技术领域涉及：B41J2/165；该发明授权液滴形成装置和微粒子制造装置是由大岛久庆;佐藤祐一;青木慎司;筱原悟史;岩田秀介设计研发完成，并于2021-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本液滴形成装置和微粒子制造装置在说明书摘要公布了：提供了一种液滴形成装置，其包括:液体室；排出孔，用于以液滴的形式排出液体室中的原料液；密封空间形成器件；以及至少两个流动路径。所述密封空间形成器件能够在与排出孔的液体室相反的一侧上形成通过排出孔与液体室连通的密封空间。至少两个流动路径通过密封空间彼此连通。
本发明授权液滴形成装置和微粒子制造装置在权利要求书中公布了：1.一种液滴形成装置，包括: 液体室； 喷嘴板，该喷嘴板包括排出孔，该排出孔被构造为以液滴的形式排出液体室中的原料液，液体室在平行于喷嘴板表面的方向上延伸； 密封空间形成器件；和 至少两个流动路径，其中 所述密封空间形成器件能够在所述排出孔的与液体室相反的一侧上形成通过所述排出孔与所述液体室连通的密封空间，和 至少两个流动路径包括相对于喷嘴板形成在与液体室相同侧的通孔和连接到液体室的管道，并通过密封空间彼此连通， 至少两个流动路径包括： 第一流动路径和第二流动路径，第一流动路径和第二流动路径在垂直于所述喷嘴板的表面的方向上分别从所述液体室的两端连接到所述液体室，以及， 第三流动路径和第四流动路径，第三流动路径和第四流动路径在垂直于喷嘴板表面的方向上分别从密封空间的两端设置到密封空间。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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