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龙图腾网获悉上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司申请的专利光学临近修正方法、装置、设备及计算机可读存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116256939B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211712344.6，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权光学临近修正方法、装置、设备及计算机可读存储介质是由万臻臻;张美丽;周倩设计研发完成，并于2022-12-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本光学临近修正方法、装置、设备及计算机可读存储介质在说明书摘要公布了：本发明涉及芯片设计领域，特别是涉及一种光学临近修正方法、装置、设备及计算机可读存储介质，通过接收原始版图信息；根据所述原始版图信息及预设的冗余修正图形库，确定在库冗余图形信息；利用所述冗余修正图形库，将所述在库冗余图形信息替换为对应的冗余修正图形信息，得到中间版图信息；对所述中间版图信息中的待处理区域进行光学邻近修正，得到目标掩膜图形信息；所述中间版图信息中的待处理区域为所述中间版图信息中未经过替换的区域；根据所述目标掩膜图形信息及所述中间版图信息，得到OPC掩膜版图信息。本发明大大缩短了芯片版图的光学临近修正耗时、提升了流片效率，缩短了芯片设计验证周期。

本发明授权光学临近修正方法、装置、设备及计算机可读存储介质在权利要求书中公布了：1.一种光学临近修正方法，其特征在于，包括： 接收原始版图信息； 根据所述原始版图信息及预设的冗余修正图形库，确定在库冗余图形信息； 利用所述冗余修正图形库，将所述在库冗余图形信息替换为对应的冗余修正图形信息，得到中间版图信息； 对所述中间版图信息中的待处理区域进行光学邻近修正，得到目标掩膜图形信息；所述中间版图信息中的待处理区域为所述中间版图信息中未经过替换的区域； 根据所述目标掩膜图形信息及所述中间版图信息，得到OPC掩膜版图信息； 在根据所述原始版图信息及预设的冗余修正图形库，确定在库冗余图形信息之后，还包括： 根据所述在库冗余图形信息，及所述冗余修正图形库确定冗余组合图形信息；所述冗余组合图形信息对应的组合图形为所述在库冗余图形信息对应的多个冗余图形根据预设的位置关系组成的图形； 相应地，所述利用所述冗余修正图形库，将所述在库冗余图形信息替换为对应的冗余修正图形信息，得到中间版图信息包括： 利用所述冗余修正图形库，将所述冗余组合图形信息替换为对应的组合修正图形信息，得到中间版图信息； 在根据所述在库冗余图形信息，及所述冗余修正图形库确定冗余组合图形信息之后，还包括： 根据所述冗余组合图形信息及所述在库冗余图形信息，判断是否存在未被组合的剩余冗余图形信息； 相应地，所述利用所述冗余修正图形库，将所述冗余组合图形信息替换为对应的组合修正图形信息，得到中间版图信息包括： 当存在所述剩余冗余图形信息时，利用所述冗余修正图形库，将所述冗余组合图形信息替换为对应的组合修正图形信息，并将所述剩余冗余图形信息替换为对应的冗余修正图形信息，得到中间版图信息； 在根据所述冗余组合图形信息及所述在库冗余图形信息，判断是否存在未被组合的剩余冗余图形信息之后，还包括： 当存在所述剩余冗余图形信息时，将所述剩余冗余图形信息对应的未被组合的冗余图形数量与所述冗余组合图形信息中的组合图形数量相除，确定组合度比值； 判断所述组合度比值是否大于预设的标准阈值； 当所述组合度比值大于所述标准阈值时，将所述原始版图信息标记为待查版图信息。

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