买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉激光影像系统有限责任公司申请的专利制造印制电路板或电路的光刻直接曝光法中的曝光控制获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116097176B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180053951.3，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权制造印制电路板或电路的光刻直接曝光法中的曝光控制是由C·施瓦茨;J·伯格夫;S·海涅曼;H·瓦格纳;S·吕克尔;F·尤格尔设计研发完成，并于2021-09-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本制造印制电路板或电路的光刻直接曝光法中的曝光控制在说明书摘要公布了：本发明涉及一种用于在采用针对光敏涂层中的二维结构的光刻直接曝光法时进行曝光控制的装置以及一种将配准数据转换为直接曝光数据的方法。本发明用以达成在采用针对光敏层中的二维结构的直接曝光法时实现允许独立于目标标记的定义位置对目标标记进行配准的有所改进的曝光控制的目的的解决方案在于，多个用于在所述衬底2的预设宽度内形成无间隙的线性扫描区域23的近心摄像机以横向于所述衬底2的一维运动线性对准的方式布置在配准单元1中，其中相邻近心摄像机的像角沿所述线性扫描区域23具有重叠区域，可以在所述重叠区域中检测所述相邻摄像机的衬底2的冗余图像记录，并且所述计算单元5具有在补充性地使用通过对所述衬底表面21的距离的三角测量所测定的目标标记的高度位置的情况下根据所述相邻近心摄像机的冗余图像记录计算所述目标标记的位置的构件。

本发明授权制造印制电路板或电路的光刻直接曝光法中的曝光控制在权利要求书中公布了：1.一种用于在以光刻的方式对衬底上的光敏涂层中的二维结构进行直接曝光时进行曝光控制的装置，所述装置包含用于对位于衬底表面上的目标标记进行配准的配准单元、用于支承和在所述配准单元下方以定义的方式一维地移动所述衬底的可动工作台系统、具有可控的线性加工路径的用于借助加工射束对所述衬底进行光刻加工以印制所述二维结构的加工单元以及用于根据通过配准的目标标记测定的所述衬底的位置借助对光刻加工的局部适配而控制加工路径与衬底之间的对准的计算单元，其特征在于， -多个用于在所述衬底2的预设宽度内形成无间隙的线性扫描区域的近心摄像机11以横向于所述衬底2的一维运动线性对准的方式布置在所述配准单元1中并且朝所述无间隙的线性扫描区域的方向具有有所延伸的像角112，其中相邻近心摄像机11的像角112沿所述无间隙的线性扫描区域具有重叠区域13，以便在所述重叠区域13中检测所述相邻近心摄像机11的衬底2的冗余图像记录，以及 -所述计算单元5具有在补充性地使用通过对所述衬底表面21的距离的三角测量所测定的目标标记22的高度位置的情况下根据所述相邻近心摄像机11的重叠区域13中的冗余图像记录计算所述目标标记22的位置的构件。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人激光影像系统有限责任公司，其通讯地址为：德国耶拿；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。