杭州电子科技大学郑辉获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州电子科技大学申请的专利一种高矫顽力软硬磁复合铁氧体薄膜材料及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115798925B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-10发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211368120.8,技术领域涉及:H01F41/18;该发明授权一种高矫顽力软硬磁复合铁氧体薄膜材料及其制备方法是由郑辉;谢斌;郑鹏;郑梁;张阳设计研发完成,并于2022-11-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高矫顽力软硬磁复合铁氧体薄膜材料及其制备方法在说明书摘要公布了:一种高矫顽力高剩磁比复合铁氧体薄膜材料的制备方法,包括以下步骤:1制备BaFe9Al3O19铁氧体靶材;2用脉冲激光沉积法在Al2O3000l基片上沉积非晶态BaFe9Al3O19铁氧体薄膜;3将上述生长的非晶态BaFe9Al3O19铁氧体薄膜放置马弗炉中进行退火,促使形成BaFe2O4和BaFe9Al3O19复合铁氧体薄膜。本发明通过固相法进行Al离子掺杂制备致密性良好的六角铁氧体靶材,并选用脉冲激光沉积技术沉积薄膜,通过控制薄膜的生长条件,实现BaFe2O4和BaFe9Al3O19复合的薄膜,充分发挥软硬磁复合的特点,提高了铁氧体薄膜的磁性能,最终制备出c轴面外取向且具有高矫顽力特征的复合铁氧体薄膜材料。其特征在于,矫顽力大于1.83T,剩磁比达到93%,在自偏置微波器件和磁记录领域具有良好的应用前景。
本发明授权一种高矫顽力软硬磁复合铁氧体薄膜材料及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种高矫顽力软硬磁复合铁氧体薄膜材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤: S1制作靶材: 以BaCO3、Fe2O3、Al2O3为原料,按照分子式BaFe9Al3O19中Ba、Fe、Al三种元素的物质的量比,计算出所述原料中,所述BaCO3、Fe2O3、Al2O3的质量百分比; 以原料、球磨机锆球及酒精的总质量计,按25%原料、45%球磨机锆球及30%酒精的质量百分比配比,将原料与酒精置于球磨罐中进行第一次球磨,得到浆料一; 对所述浆料一进行烘干,研磨,得到料粉一, 将所述料粉一置于马弗炉中预烧,升温速率为4℃min,在1000℃下预烧3小时; 将预烧的产物研磨后,按25%原料、45%球磨机锆球及30%酒精的质量百分比配比,将原料与酒精置于球磨罐中进行第二次球磨,得到浆料二; 将浆料二烘干研磨后,得到料粉二; 将聚乙烯醇的质量浓度为8%的聚乙烯醇溶液作为粘合剂掺入料粉二中,掺入的粘合剂的质量为所述料粉二质量的5~10%,在研钵中混合均匀,得到料粉三; 将料粉三置于模具中,压制得到生坯; 将生胚置于马弗炉中进行排胶,得到排胶后的生坯; 将排胶后的生坯置于马弗炉中,升温至1300~1350℃,保持3h后,以4℃min降温至800℃,再以自然降温至室温,得到BaFe9Al3O19靶材; S2清洗基片: 使用丙酮溶液、无水乙醇、去离子水分别对Al2O3000l基底进行超声清洗,得到基片; S3沉积薄膜: 设置所述步骤S1中得到的靶材与所述步骤S2中得到的基片的距离为45mm,将溅射腔内气压抽到低于1×10-4Pa,再将所述基片加热至400~600℃,激光频率设置为5Hz、激光强度设置为350mJ,保持溅射腔室内气压为1×10-3Pa~5×10-3Pa下,沉积一层厚度为500~1000nm的非晶BaFe9Al3O19薄膜; S4退火晶化处理: 将生长了非晶BaFe9Al3O19薄膜的基片放置于马弗炉中,以4℃min的升温速率从室温升到900~1000℃,在900~1000℃于空气气氛中保温3小时,然后以4℃min降温至800℃,最后自然冷却至室温,得到c轴面外取向BaFe9Al3O19硬磁薄膜复合软磁特性的BaFe2O4薄膜。
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