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龙图腾网获悉华侨大学申请的专利荧光显微成像中明场细胞图像分割方法和装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115393375B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210988158.9，技术领域涉及：G06T7/11；该发明授权荧光显微成像中明场细胞图像分割方法和装置是由王宜东;杜永兆;张娅;傅玉青;刁勇设计研发完成，并于2022-08-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本荧光显微成像中明场细胞图像分割方法和装置在说明书摘要公布了：本发明荧光显微成像中明场细胞图像分割方法和装置，结合改进的二维OTSU阈值分割算法，在图像图预处理阶段已对单细胞图像噪声点进行了滤除，又采取了二值图像数学形态学方法进一步细胞分割结果，而后对粘连细胞部分结合细胞核图像采用基于标记控制的分水岭分割算法进行分割处理，本发明通过采用图像增强操作来改善分割结果，并利用多种分割方法来细化分割结果，能够有效解决明场细胞图像中存在的弱边缘、对比度差、细胞形状不规则和细胞粘连的问题，因此整体视觉分割效果是较好的。

本发明授权荧光显微成像中明场细胞图像分割方法和装置在权利要求书中公布了：1.一种荧光显微成像中明场细胞图像分割方法，其特征在于包括如下步骤： 步骤1、输入明场细胞图像和对应的细胞核图像； 步骤2、对输入的细胞核图像进行OTSU阈值分割，得到初步的细胞核分割结果后，采用二值图像数学形态学处理去除杂散点，最后利用质心公式求得每个细胞核的质心，分别把质心映射到明场细胞图像中后，以质心为中心，裁剪出一个包含该细胞的矩形框，从而将明场细胞图像按照单细胞进行裁剪，得到多个单细胞图像； 步骤3、分别对单细胞图像作图像增强操作，依次包括消除背景干扰处理、突出细胞边缘处理和去除噪声处理；所述消除背景干扰处理，是对单细胞图像作双重高斯滤波处理从而去除背景干扰，所述突出细胞边缘处理，是对经过双重高斯滤波处理过的单细胞图像通过顶帽变换在暗背景下突出细胞边缘，所述去除噪声处理，是对顶帽变换后的单细胞图像做中值滤波处理从而消除噪声干扰； 步骤4、把经过突出细胞边缘处理和去除噪声处理的单细胞图像各作为一个维度组成二维直方图，采用改进的二维OTSU阈值分割法对其进行处理，得到初步分割结果； 步骤5、对经过二维OTSU阈值分割后的单细胞图像采用二值图像数学形态学操作进一步优化分割结果，二值图像数学形态学操作包括闭运算、填充孔洞、开运算和面积约束条件； 步骤6、以细胞核二值图像为标记点，将所有经过步骤5处理的单细胞图像进行合并，对合并的细胞图像采用基于标记控制的分水岭分割算法进一步分割后，完成细胞图像分割，分水岭分割算法建立在数学形态学的理论基础之上，模拟立体的地形表面，利用步骤2得到二值化细胞核图像作为分水岭的标记点，对合并的细胞图像采用基于标记控制的分水岭分割算法进一步分割粘连细胞。

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