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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理装置、基板处理方法以及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114843206B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210088864.8，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权基板处理装置、基板处理方法以及存储介质是由畠山真一;川上浩平设计研发完成，并于2022-01-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本基板处理装置、基板处理方法以及存储介质在说明书摘要公布了：本发明涉及基板处理装置、基板处理方法以及存储介质，不提高排气压地防止自基板甩出的成膜处理液向液体接受部的外部泄漏。基板处理装置包括：保持基板并使其旋转的保持旋转部、向基板供给成膜处理液的供给部、接受因旋转而自基板甩出的成膜处理液的液体接受部以及对基板处理进行控制的控制部，液体接受部在上部具有供基板穿过并向上方的空间开口的孔，液体接受部的内部被排气，基板处理包含供给处理和干燥处理，基板处理装置还包括相对于液体接受部的上表面进退自如的圆环状的圆环构件，控制部控制为：在供给处理时，圆环构件以封堵液体接受部的孔的周缘的方式设于液体接受部的上表面，在干燥处理时，圆环构件自液体接受部的上表面退避。

本发明授权基板处理装置、基板处理方法以及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，其对基板进行处理，其中， 该基板处理装置包括： 保持旋转部，其保持基板并使该基板旋转； 供给部，其向被所述保持旋转部保持着的基板供给成膜处理液； 液体接受部，其接受由于所述保持旋转部的旋转而自基板甩出的成膜处理液；以及 控制部，其进行与基板处理相关的控制， 所述液体接受部在上部具有孔，该孔供向所述保持旋转部保持的基板穿过并成为相对于上方的空间的开口，所述液体接受部的内部被排气， 所述基板处理包含向基板供给成膜处理液并使该基板旋转的供给处理和在所述供给处理之后使基板旋转并使基板上的成膜处理液干燥的干燥处理， 该基板处理装置还包括圆环状的圆环构件，该圆环构件构成为相对于所述液体接受部的上表面进退自如， 所述控制部以如下方式进行控制：在所述供给处理时，所述圆环构件以封堵所述液体接受部的所述孔的周缘的方式设置于所述液体接受部的上表面，在所述干燥处理时，所述圆环构件自所述液体接受部的上表面退避， 所述圆环构件的与被所述保持旋转部保持着的基板相对的面是以自外周侧朝向内周端逐渐降低的方式倾斜而成的倾斜面。

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