三星电子株式会社李洙龙获国家专利权
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龙图腾网获悉三星电子株式会社申请的专利光学邻近校正方法和包括该方法的制造掩模的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113534599B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110423235.1，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权光学邻近校正方法和包括该方法的制造掩模的方法是由李洙龙;文瑞琳;朴庆宰;李受龙;郑刚珉设计研发完成，并于2021-04-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学邻近校正方法和包括该方法的制造掩模的方法在说明书摘要公布了：本公开提供了光学邻近校正方法和制造掩模的方法。该光学邻近校正方法包括：从图案掩模提取第一图案；对第一图案的至少一部分执行光刻，以形成第一第一图案；在形成第一图案的位置处形成第一第一图案；以及在其上形成有第一第一图案的图案掩模上执行校正。
本发明授权光学邻近校正方法和包括该方法的制造掩模的方法在权利要求书中公布了：1.一种光学邻近校正方法，包括： 提供形成有多个第一图案的图案掩模； 从所述图案掩模提取至少一个所述第一图案； 对所提取的第一图案进行分析，并缩小所分析的第一图案的面积， 对所提取并缩小后的第一图案执行反向光刻技术以形成第一第一图案； 在形成所述第一图案的位置处形成所述第一第一图案；以及 对其上形成有所述第一第一图案的所述图案掩模执行校正， 其中执行校正包括确定是否违反了掩模规则检查。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人三星电子株式会社，其通讯地址为：韩国京畿道；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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