武汉光迅科技股份有限公司张晋军获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉武汉光迅科技股份有限公司申请的专利一种提高平面光波导边缘通道隔离度的密集波分器件获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223977372U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520643221.4，技术领域涉及：G02B6/12；该实用新型一种提高平面光波导边缘通道隔离度的密集波分器件是由张晋军;刘文俊;刘森山;陈辉设计研发完成，并于2025-04-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种提高平面光波导边缘通道隔离度的密集波分器件在说明书摘要公布了：本实用新型涉及光通信技术领域，特别是涉及一种提高平面光波导边缘通道隔离度的密集波分器件，包括：AWG器件和带通滤波膜，所述带通滤波膜镀设在所述AWG器件的输出端；所述带通滤波膜由高折射率材料和低折射率材料构成；所述带通滤波膜用于降低边缘通道的光信号在所述AWG器件的输出端的透过率，提高边缘通道的隔离度。通过在AWG器件的输出端表面镀设带通滤波膜，对带通滤波膜设计特定的滤波谱，使得AWG器件中间通道的信号光不受影响，边缘通道的信号光和光隔离度增强，减小边缘通道的信号串扰，提高通信系统的性能。
本实用新型一种提高平面光波导边缘通道隔离度的密集波分器件在权利要求书中公布了：1.一种提高平面光波导边缘通道隔离度的密集波分器件，其特征在于，包括：AWG器件1和带通滤波膜2，所述带通滤波膜2镀设在所述AWG器件1的输出端；所述带通滤波膜2由高折射率材料和低折射率材料构成； 所述带通滤波膜2用于降低边缘通道的光信号在所述AWG器件1的输出端的透过率，提高边缘通道的隔离度。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人武汉光迅科技股份有限公司，其通讯地址为：430074 湖北省武汉市东湖新技术开发区流苏南路1号(自贸区武汉片区)；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励