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龙图腾网获悉上海高能煜镀科技有限公司申请的专利一种运用于高功率激光的带红光防反滤光片获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223977370U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520569163.5，技术领域涉及：G02B5/20；该实用新型一种运用于高功率激光的带红光防反滤光片是由陈旭华;雷萍设计研发完成，并于2025-03-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种运用于高功率激光的带红光防反滤光片在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种运用于高功率激光的带红光防反滤光片，其特征在于，包括：位于中部的基底层，在所述基底层的上部设置有主膜结构层，在所述基底层的下部设置有次膜结构层；所述主膜结构层为沿着靠近所述基底层的一侧向外交替叠加的61层高折射率膜结构和低折射率膜结构，所述次膜结构层为沿着靠近所述基底层的一侧向外交替叠加的6层高折射率膜结构和低折射率膜结构。本实用新型的运用于高功率激光的带红光防反滤光片能够适用于不同的工作波段，在635±10nm取得高透过率T98％、915±10nm取得高透过率T99％、976±10nm取得高透过率T99％，在1064±10nm波段得到高反射率R99.9％，通过反射和透射不同波长的激光实现防反功能。

本实用新型一种运用于高功率激光的带红光防反滤光片在权利要求书中公布了：1.一种运用于高功率激光的带红光防反滤光片，其特征在于，包括： 位于中部的基底层，在所述基底层的上部设置有主膜结构层， 在所述基底层的下部设置有次膜结构层； 所述主膜结构层为沿着靠近所述基底层的一侧向外交替叠加的61层高折射率膜结构和低折射率膜结构， 所述主膜结构层为如下所示： 基底层 154.75nmH261.22nmL56.1nmH70nmL172.32nmH130.6nmL249.85nmH 126.85nmL186.1nmH119.47nmL213.89nmH128.57nmL213.13nmH128.9nmL204.26nmH114.16nmL213.08nmH125.08nmL208.52nmH123.11nmL 219.38nmH115.89nmL208.39nmH117.89nmL219.76nmH117.13nmL 213.98nmH121.1nmL216.57nmH114.05nmL217.1nmH117.59nmL212.32nmH116.99nmL220.76nmH122.42nmL209.06nmH115.59nmL215.07nmH119.88nmL206.92nmH126.14nmL216.9nmH121.47nmL202.04nmH121.66nmL206.91nmH125nmL210.69nmH139.1nmL197.63nmH117.1nmL182.53nmH145.85nmL231.46nmH119.81nmL189.71nmH131.96nmL238.59nmH134.62nmL95.23nmH空气； 所述次膜结构层为沿着靠近所述基底层的一侧向外交替叠加的6层高折射率膜结构和低折射率膜结构， 所述次膜结构层为： 基底层13.91nmH68.95nmL67.25nmH23.3nmL69.41nmH143.84nmL空气； 其中，H表示高折射率膜结构，L表示低折射率膜结构，H、L前的纳米数为对应膜结构的厚度。

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