江苏京创先进电子科技有限公司周井鑫获国家专利权
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龙图腾网获悉江苏京创先进电子科技有限公司申请的专利双循环真空装置及半导体器件加工设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223975248U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-06发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520266269.8，技术领域涉及：F04C19/00；该实用新型双循环真空装置及半导体器件加工设备是由周井鑫;胡小波;孙志超;林璇;高金龙设计研发完成，并于2025-02-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本双循环真空装置及半导体器件加工设备在说明书摘要公布了：本实用新型揭示了双循环真空装置及半导体器件加工设备，其中，双循环真空装置包括水箱，所述水箱包括出水口及进水口，所述出水口靠近所述水箱的底部，所述出水口和进水口之间连接有至少两个水环式真空泵，所述水箱内设置有用于检测水箱内液体的液位的液位检测组件。本实用新型采用水环式真空泵来产生负压，能够通过水环式真空泵直接排除管道中吸入的液体，而不需要设置额外的真空排液罐和真空发生器，结构更简单，设置至少两个水环式真空泵，能够通过多个水环式真空泵同时工作提高真空能力，并且可以在一个水环式真空泵故障时，由其他水环式真空泵正常工作，从而改善了真空系统的冗余度。
本实用新型双循环真空装置及半导体器件加工设备在权利要求书中公布了：1.双循环真空装置，包括水箱，所述水箱包括出水口及进水口，所述出水口靠近所述水箱的底部，其特征在于：所述出水口和进水口之间连接有至少两个水环式真空泵，所述水箱内设置有用于检测水箱内液体的液位的液位检测组件。
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