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龙图腾网获悉中国科学院长春光学精密机械与物理研究所申请的专利DMD-MCP紫外成像系统及畸变校正方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121235962B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511788718.6，技术领域涉及：G06T5/80；该发明授权DMD-MCP紫外成像系统及畸变校正方法是由闫万红;陶琛;宋克非;何玲平;陈波;于思博;张宏吉设计研发完成，并于2025-12-01向国家知识产权局提交的专利申请。

本DMD-MCP紫外成像系统及畸变校正方法在说明书摘要公布了：本发明涉及光谱分析仪器领域，具体涉及一种DMD‑MCP紫外成像系统及畸变校正方法。该畸变校正方法通过生成点阵掩膜，采集MCP畸变图像，提取特征点，并融合非线性多项式建模与神经网络模型进行联合校正，实现从粗校正到精校正的两阶段处理。本发明填补DMD‑MCP紫外成像系统的空间映射与几何畸变校正空白，显著提升光谱定量精度，适配高端光谱仪，可拓展至X射线、电子成像等场景，工程化价值高。

本发明授权DMD-MCP紫外成像系统及畸变校正方法在权利要求书中公布了：1.一种DMD-MCP紫外成像系统的畸变校正方法，其特征在于，包括以下步骤： S1：在数字微镜器件的像面上生成规则分布的点阵掩膜； S2：开启紫外光源，紫外光束经数字微镜器件进行调制，再经光学系统成像在单光子计数成像探测器的像面上，得到点阵畸变图像； S3：对点阵畸变图像中的光斑特征点进行提取，获得光斑特征点的像素坐标； S4：基于点阵畸变图像中心区域的光斑特征点，生成理想的点阵无畸变参考图像；其中，点阵无畸变参考图像中光斑特征点的像素坐标； S5：对点阵掩膜在数字微镜器件的像面内进行逐个像素平移扫描，重复步骤S1至S4，获取多组点阵畸变图像与点阵无畸变参考图像的配对数据； S6：基于配对数据构建点阵畸变图像中光斑特征点的像素坐标与点阵无畸变参考图像中光斑特征点的像素坐标之间的一一对应关系，形成映射数据集； S7：利用映射数据集中的部分数据构建非线性多项式模型，并通过最小二乘法拟合求解非线性多项式模型中的校正系数； S8：利用求解出的校正系数，对映射数据集中其余部分的点阵畸变图像进行像素坐标映射和灰度插值重采样，实现对点阵畸变图像的粗校正，生成粗校正图像； S9：以粗校正图像中的光斑特征点坐标作为输入，以其对应的点阵无畸变参考图像中的光斑特征点坐标作为输出，训练神经网络模型； S10：将粗校正图像的像素坐标逐一输入已完成训练的神经网络模型，获得校正像素坐标； S11：计算校正像素坐标相对于像素坐标的残差偏移量，利用残差偏移量对粗校正图像的像素坐标进行残差补偿，实现对点阵畸变图像的精校正。

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