中节能万润股份有限公司张鹏程获国家专利权
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龙图腾网获悉中节能万润股份有限公司申请的专利一种用于ArF光刻胶聚合物及制备方法和光刻胶组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120965929B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511483468.5，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权一种用于ArF光刻胶聚合物及制备方法和光刻胶组合物是由张鹏程;杨丽;孙晟源;刘文昭;陈帅设计研发完成，并于2025-10-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于ArF光刻胶聚合物及制备方法和光刻胶组合物在说明书摘要公布了：本发明涉及光刻胶技术领域，具体涉及一种用于ArF光刻胶聚合物及制备方法和光刻胶组合物，所述的聚合物具有如下通式：；x、y、z、m分别为聚合物重复单元的质量分数，x选自20‑30%，y选自10‑15%，z选自25‑44%、m选自15‑30%，所述聚合物的分子量选自2000‑20000Da，分子量分散系数选自1.0‑3.0。所述的制备方法为：将单体A、单体B、单体C、单体D、自由基引发剂混合后溶解在电子级反应溶剂中制备混合溶液，通过控制反应温度和反应时间制备出聚合物，反应完毕，将反应体系滴加至不良溶剂中造粒得到所述的聚合物。用该聚合物配制的光刻胶组合物具有分辨率高、线宽均匀性好、耐抗蚀性好。
本发明授权一种用于ArF光刻胶聚合物及制备方法和光刻胶组合物在权利要求书中公布了：1.一种用于ArF光刻胶聚合物，其特征在于，所述的聚合物具有如下通式： ； x、y、z、m分别为聚合物重复单元的质量分数，x选自20-30%，y选自10-15%，z选自35-40%、m选自20-30%，所述聚合物的分子量选自2000-20000Da，分子量分散系数选自1.0-3.0。
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