北京基因安科技有限公司张玉祥获国家专利权
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龙图腾网获悉北京基因安科技有限公司申请的专利一种光敏聚偏二氟乙烯膜及其制备方法和用途获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120944169B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511478536.9，技术领域涉及：C08J7/12；该发明授权一种光敏聚偏二氟乙烯膜及其制备方法和用途是由张玉祥;张印广;叶晓明设计研发完成，并于2025-10-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光敏聚偏二氟乙烯膜及其制备方法和用途在说明书摘要公布了：本发明涉及生物技术和材料领域，特别涉及一种改进的蛋白质印迹转印膜，及其制备方法和用途。具体地说，本发明涉及一种化学修饰的聚偏二氟乙烯膜，所述膜表面修饰有式I所示的基团：式I。将蛋白质转移至本发明的化学修饰的聚偏二氟乙烯膜上后，可以使用365nm紫外线照射，从而将蛋白质共价交联到膜上。本发明还涉及化学修饰的聚偏二氟乙烯膜的制备方法，及其在蛋白质印迹中的用途。
本发明授权一种光敏聚偏二氟乙烯膜及其制备方法和用途在权利要求书中公布了：1.一种化学修饰的聚偏二氟乙烯膜，所述膜表面修饰有式I所示的基团， 式I 其中，R1选自C1-C6烷基、氟代C1-C6烷基； L1选自，其中m选自1-6的整数，其中标号1位置表示与式I中的环碳原子相连，标号2位置表示与L2相连； L2选自，其中n选自1-6的整数，其中标号1位置表示与L1中的标号2位置相连，Si相连的O原子与聚偏二氟乙烯膜表面相连。
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