苏州山河光电科技有限公司宋凯获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州山河光电科技有限公司申请的专利成像系统及其设计方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120928569B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511470123.6，技术领域涉及：G02B27/00；该发明授权成像系统及其设计方法是由宋凯;史宝鹏设计研发完成，并于2025-10-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本成像系统及其设计方法在说明书摘要公布了：本申请揭示了一种成像系统及其设计方法，设计方法包括：获得第一成像信息和第一目标信息，所述第一成像信息由成像系统对第一目标物成像得到，所述第一目标信息表示所述第一目标物的实际信息，基于所述第一成像信息和第一目标信息，确定损失值，基于损失值，更新所述光学元件的聚焦位置，或者更新所述处理模块的设计，或者更新所述光学元件的聚焦位置和所述处理模块的设计两者，直至所述损失值满足预设数值条件，得到成像系统的设计信息。本申请提供的设计方法，设计得到的系统能够适应复杂任务下的成像和处理，生成的信息全面、准确。
本发明授权成像系统及其设计方法在权利要求书中公布了：1.一种成像系统的设计方法，其特征在于， 所述成像系统包括： 光学元件，用于接收来自目标物的入射光，在像面中至少两个位置处聚焦产生中间信号， 处理模块，用于根据所述中间信号生成成像信息； 所述设计方法包括： 获得第一成像信息和第一目标信息，所述第一成像信息由成像系统对第一目标物成像得到，所述第一目标信息表示所述第一目标物的实际信息， 基于所述第一成像信息和第一目标信息的差异，确定损失值， 基于损失值，以缩小第一成像信息和第一目标信息的差异为目标，更新所述光学元件的聚焦位置，或者更新所述光学元件的聚焦位置和所述处理模块的设计两者，直至所述损失值满足预设数值条件，得到成像系统的设计信息； 所述设计方法包括以下至少一项： 调整光学元件中的子单元的排列，以更新所述光学元件的聚焦位置， 调整光学元件中的子单元的位置，以更新所述光学元件的聚焦位置， 调整光学元件中的子单元的纳米结构，以更新所述光学元件的聚焦位置，所述子单元中的纳米结构用于在光学元件处构成超表面。
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