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龙图腾网获悉盛红晔半导体科技(上海)有限公司申请的专利一种用于等离子体处理的系统及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120033055B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510188084.4，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权一种用于等离子体处理的系统及方法是由郑晗;张汪鹏;荆亦仁设计研发完成，并于2025-02-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于等离子体处理的系统及方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种用于等离子体处理的系统及方法。系统包括基座、气体输送装置和全波长螺旋谐振装置；其中，全波长螺旋谐振装置包括n个反应腔、n个感应线圈和射频功率源，用于产生谐振并提供均匀的等离子体分布；其中，感应线圈位于反应腔中，与射频功率源电连接，n个反应腔顺次相连，n个感应线圈之间串联，感应线圈的电器长度之和为射频功率源所发出射频信号的整数倍波长，在反应腔内部形成三个感应环区。与现有技术相比，本发明具有实现零总磁矩设计，加工效率提升，稳定性提高和简化结构等优点。

本发明授权一种用于等离子体处理的系统及方法在权利要求书中公布了：1.一种用于等离子体处理的系统，其特征在于，包括：基座、气体输送装置和全波长螺旋谐振装置； 所述基座用于承载待处理基板，基座上设置有浮动顶针，浮动顶针的高度为150um，使得待处理基板与基座之间形成狭缝间距，在反应腔的工艺压力下，使得间隙内的气体流动的克努森数Kn大于10，从而采用稀薄传热机制，以提供稳定的温控环境； 所述气体输送装置包括多个气流导向部件，用于向反应腔内提供工艺气体； 所述全波长螺旋谐振装置包括n个反应腔、n个感应线圈和射频功率源，用于产生谐振并提供均匀的等离子体分布；其中，感应线圈位于反应腔中，与射频功率源电连接，n个反应腔顺次相连，n个感应线圈之间串联，感应线圈的电气长度之和为射频功率源所发出射频信号的整数倍波长，在反应腔内部形成三个感应环区，n＞0，为整数； 所述三个感应环区包括中心感应区和两端反向感应区；中心感应区的功率密度是两端反向感应区的功率密度的两倍； 所述的感应线圈的几何参数和屏蔽距离满足全波长螺旋谐振装置的预设特性阻抗要求，从而完成内在阻抗优化，其中，预设特性阻抗要求为：特性阻抗与射频功率源的输出阻抗匹配，其具体公式为： 其中，Zin是感应线圈的输入阻抗；Zc是感应线圈的特性阻抗；β是传播常数；L是感应线圈的电气长度；j是虚数单位，用于表示阻抗的虚部。

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