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龙图腾网获悉南开大学申请的专利平整飞秒激光过饱和掺杂装置、方法及探测器的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119852173B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510002431.X，技术领域涉及：H10P34/42；该发明授权平整飞秒激光过饱和掺杂装置、方法及探测器的制备方法是由吴强;宋冠廷;周旭;曹家欣;郑子阳;许京军设计研发完成，并于2025-01-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本平整飞秒激光过饱和掺杂装置、方法及探测器的制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种平整飞秒激光过饱和掺杂装置、方法及探测器的制备方法，属于光电技术领域，包括依次设置的飞秒激光器、电光快门、第二半波片、第二格兰泰勒棱镜、聚焦透镜和密闭加工腔，通过使用热蒸镀法在硅表面镀硫膜作掺杂剂，并使用电光快门精确控制加工脉冲数量，实现任意脉冲数加工，抑制了表面能量局域化和孵化效应等带来的不可控随机影响。本发明制备的平整过饱和掺杂硅材料表面与现代半导体工业技术相兼容，利于开发硅基系列光电器件，促进CCD与CMOS等焦平面器件的发展。此外，本发明制备的平整过饱和掺杂硅探测器在350～1200nm波段的光响应度超过了1AW，同时实现了紫外增强和亚带隙红外探测。

本发明授权平整飞秒激光过饱和掺杂装置、方法及探测器的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种飞秒激光过饱和掺杂方法，其特征在于：利用飞秒激光过饱和掺杂装置实现，所述飞秒激光过饱和掺杂装置包括依次设置的飞秒激光器、电光快门、第二半波片、第二格兰泰勒棱镜、聚焦透镜和密闭加工腔，所述密闭加工腔内安装有样品架，所述样品架安装在三维平移装置上；所述电光快门包括第一半波片、普克尔盒和第一格兰泰勒棱镜，所述普克尔盒包括电光晶体和驱动电源；所述飞秒激光器和密闭加工腔之间设置有机械快门；所述机械快门位于飞秒激光器与电光快门之间； 飞秒激光过饱和掺杂方法，包括以下步骤： S1、将待掺杂的样品固定在密闭加工腔内的样品架上，样品设置有镀膜层； S2、飞秒激光器发射激光脉冲，通过机械快门和电光快门控制脉冲数，实现任意脉冲数加工； S3、控制脉冲数后的激光脉冲通过第二半波片和第二格兰泰勒棱镜，第二半波片和第二格兰泰勒棱镜组合实现激光偏振与能流的连续控制； S4、将步骤S3整形后的飞秒激光脉冲通过聚焦透镜聚焦至样品表面，由三维平移装置配合机械快门与电光快门对样品表面进行扫描加工，实现样品改性； 在步骤S4中，飞秒激光扫描加工方式为：电光快门、机械快门与三维平移装置配合加工，三维平移装置的移动速度为1mms，电光快门开启时间对应激光脉冲周期，频率设置为10Hz，激光能流密度为2.2kJm2，确保样品每一点平均受到两个脉冲辐照。

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