合肥维信诺科技有限公司臧公正获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥维信诺科技有限公司申请的专利掩膜结构及其制造方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119824366B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510121982.8,技术领域涉及:C23C14/04;该发明授权掩膜结构及其制造方法是由臧公正;李慧;王盼盼设计研发完成,并于2025-01-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩膜结构及其制造方法在说明书摘要公布了:本申请涉及一种掩膜结构及其制造方法,掩膜结构包括:框架;多个支撑件,各支撑件的两端固定连接于框架上,多个支撑件包括多个沿第一方向间隔排布的第一支撑件及多个沿第二方向间隔排布的第二支撑件,第一方向与第二方向相交,多个第一支撑件与多个第二支撑件限定出至少两个蒸镀区域;至少一个掩膜单元,沿第二方向延伸设置,且掩膜单元的沿第二方向的两端固定于框架上,掩膜单元包括至少一个网格区域,网格区域与至少一个蒸镀区域对应;其中,掩膜结构包括至少一个位于支撑件与掩膜单元交叠处的第一部位,掩膜单元与第二支撑件在第一部位固定连接。本申请可以提升掩膜结构的性能,提升显示面板的显示品质。
本发明授权掩膜结构及其制造方法在权利要求书中公布了:1.一种掩膜结构,其特征在于,包括: 框架; 多个支撑件,各所述支撑件的两端固定连接于所述框架上,多个所述支撑件包括多个沿第一方向间隔排布的第一支撑件及多个沿第二方向间隔排布的第二支撑件,所述第一方向与所述第二方向相交,多个所述第一支撑件与多个所述第二支撑件限定出至少两个蒸镀区域; 至少一个掩膜单元,沿所述第二方向延伸设置,且所述掩膜单元的沿所述第二方向的两端固定于所述框架上,所述掩膜单元包括至少一个网格区域,所述网格区域与至少一个所述蒸镀区域对应; 其中,所述掩膜结构包括至少一个位于所述支撑件与所述掩膜单元交叠处的第一部位,所述掩膜单元与所述第二支撑件在所述第一部位固定连接; 其中,所述掩膜结构包括至少三个所述第一部位,所述至少三个所述第一部位包括第一子部位,以及两个沿第二方向位于所述第一子部位靠近所述掩膜单元的端部的第二子部位; 所述掩膜单元与所述第二支撑件在所述第二子部位弹性的固定连接; 所述掩膜单元与所述第二支撑件在所述第一子部位刚性的固定连接; 其中,所述框架包括沿所述第二方向延伸的第二中心线,以及沿所述第一方向延伸的第三中心线,所述掩膜单元包括在所述第二方向上的第一端部和第二端部,所述至少一个网格区域包括多个蒸镀开口; 在至少一位于所述第二中心线一侧的所述掩膜单元中,多个所述蒸镀开口包括靠近所述第一端部,且靠近所述第二中心线的第一边缘开口,多个所述蒸镀开口还包括靠近所述第一端部,且远离所述第二中心线的第二边缘开口; 在至少一位于所述第二中心线一侧的所述掩膜单元中,多个所述蒸镀开口还包括靠近所述第二端部,且靠近所述第二中心线的第三边缘开口,多个所述蒸镀开口还包括靠近所述第二端部,且远离所述第二中心线的第四边缘开口; 所述第一边缘开口至所述第三中心线的距离大于所述第二边缘开口至所述第三中心线的距离,所述第三边缘开口至所述第三中心线的距离大于所述第四边缘开口至所述第三中心线的距离。
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