京东方科技集团股份有限公司;武汉京东方光电科技有限公司汪洋获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;武汉京东方光电科技有限公司申请的专利显示基板及其制备方法、显示面板和掩膜版获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119678099B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202380007880.2，技术领域涉及：G02F1/1339；该发明授权显示基板及其制备方法、显示面板和掩膜版是由汪洋;尹海斌;程志伟;殷蝶;徐文磊;黄想设计研发完成，并于2023-02-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示基板及其制备方法、显示面板和掩膜版在说明书摘要公布了：一种显示基板及其制备方法、显示面板和掩膜版，涉及显示技术领域，显示基板包括：衬底1以及位于衬底1上的有机结构；有机结构包括第一表面M1，第一表面M1远离衬底1设置；在沿垂直于衬底1所在平面的方向上，第一表面M1到衬底1之间的最大距离与第一表面M1到衬底1之间的最小距离的差值小于或等于0.06μm。显示基板上有机结构的第一表面M1具有较高的平坦度，由于第一表面M1到衬底1之间的最大距离与第一表面M1到衬底1之间的最小距离的差值小于或等于0.06μm，在显示基板制备的显示面板被按压的情况下，有机结构能够起到较好的支撑作用。
本发明授权显示基板及其制备方法、显示面板和掩膜版在权利要求书中公布了：1.一种显示基板，其中，包括： 衬底以及位于所述衬底上的有机结构； 所述有机结构包括第一表面，所述第一表面远离所述衬底设置； 在沿垂直于所述衬底所在平面的方向上，所述第一表面到所述衬底之间的最大距离与所述第一表面到所述衬底之间的最小距离的差值小于或等于0.06μm； 在沿垂直于所述衬底所在平面的方向上，所述第一表面的几何中心位置处到所述衬底之间的距离大于或等于所述第一表面上各点到所述衬底之间的距离的平均值。
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